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化学机械抛光技术研究现状及发展趋势被引量：27: 1; 作者燕禾吴春蕾 +2 位作者唐旭福段先健王跃林《材料研究与应用》 CAS 2021年第4期432-440,共9页; 综述了化学机械抛光技术的发展现状.介绍了化学机械抛光系统的组成及工作原理,着重阐述介绍了系统各部分的构成及作用,并对化学机械抛光未来的发展趋势作了展望.; 关键词化学机械抛光研究现状发展趋势; 在线阅读下载PDF 职称材料

	题名	作者	出处	发文年	被引量	操作
1	化学机械抛光技术研究现状及发展趋势	燕禾吴春蕾唐旭福段先健王跃林	《材料研究与应用》 CAS	2021	27	在线阅读下载PDF 职称材料

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