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稀土电沉积研究与开发亟待加强 被引量：4
1
作者 周绍民 《电镀与精饰》 CAS 1994年第4期3-3,共1页
我国稀土矿物资源丰富,储量居世界首位。稀土元素独特的化学性质及其磁学、光学与俘获热中子等性能为其广泛应用提供基础,目前,稀土金属和化合物已成为发展现代尖端科学技术不可缺少的特殊材料。 稀土元素(RE)的氧化还原电势较负,从-2.... 我国稀土矿物资源丰富,储量居世界首位。稀土元素独特的化学性质及其磁学、光学与俘获热中子等性能为其广泛应用提供基础,目前,稀土金属和化合物已成为发展现代尖端科学技术不可缺少的特殊材料。 稀土元素(RE)的氧化还原电势较负,从-2.52V到-2.25V,虽然从非水溶液电沉积稀土元素是不成问题的,而从水溶液电沉积则较困难,但也是可能的。1988年已有文献报道,采用柠檬酸等络合剂可使稀土金属在某些基体上电沉积的电势正移,实现了从水溶液中电沉积La和Sm。用电沉积法制备稀土金属、稀土-过渡金属化合物、超导材料等的薄膜,特别是用于镀覆大的非平面电子装置更具有重要意义,因此,80年代以来这方面的研究越来越引起电化学家的重视。 展开更多
关键词 稀土金属 化合物 电沉积
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高择优取向铜镀层的电化学形成及其表面形貌 被引量：50
2
作者 辜敏 杨防祖 +2 位作者 黄令 姚士冰 周绍民 《物理化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2002年第11期973-978,共6页
采用电化学方法在H2SO4-CuSO4电解液中获得高择优取向的Cu电沉积层.XRD结果表明,在1.0～6.0和15.0A·dm-2的电流密度下可分别获得(220)和(111)晶面高择优取向的Cu镀层.在同一电流密度下获得的Cu电沉积层织构度随镀层厚度增大而提高.... 采用电化学方法在H2SO4-CuSO4电解液中获得高择优取向的Cu电沉积层.XRD结果表明,在1.0～6.0和15.0A·dm-2的电流密度下可分别获得(220)和(111)晶面高择优取向的Cu镀层.在同一电流密度下获得的Cu电沉积层织构度随镀层厚度增大而提高.SEM结果表明,在4.0和15.0A·dm-2的电流密度下可分别获得(220)和(111)织构Cu沉积层,其表面形貌在(220)晶面取向时呈现为细长晶粒连结成的网状,在(111)取向时则呈六棱锥状.提出了可能的机理,认为电流密度变化引起的Cu镀层择优取向晶面的转化归因于电结晶晶面生长方向及生长速度竞争的结果. 展开更多
关键词 择优取向 铜镀层 电化学形成 电沉积 表面形貌 镀铜
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以次磷酸钠为还原剂化学镀铜的电化学研究 被引量：35
3
作者 杨防祖 杨斌 +3 位作者 陆彬彬 黄令 许书楷 周绍民 《物理化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2006年第11期1317-1320,共4页
通过电化学方法研究了以次磷酸钠为还原剂,柠檬酸钠为络合剂的化学镀铜体系．应用线性扫描伏安法,检测了温度、pH值、镍离子含量对次磷酸钠阳极氧化和铜离子阴极还原的影响．结果表明,升高温度能够加速阳极氧化与阴极还原过程;pH值的提... 通过电化学方法研究了以次磷酸钠为还原剂,柠檬酸钠为络合剂的化学镀铜体系．应用线性扫描伏安法,检测了温度、pH值、镍离子含量对次磷酸钠阳极氧化和铜离子阴极还原的影响．结果表明,升高温度能够加速阳极氧化与阴极还原过程;pH值的提高可促进次磷酸钠氧化,但抑制铜离子还原;镍离子的存在不仅对次磷酸钠的氧化有强烈的催化作用,而且与铜共沉积形成合金．该合金有催化活性,使化学镀铜反应得以持续进行． 展开更多
关键词 化学镀铜 次磷酸钠 再活化剂 阳极氧化 阴极还原
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搅拌条件下电流密度对Cu镀层的织构和表面形貌的影响 被引量：30
4
作者 辜敏 黄令 +2 位作者 杨防祖 姚士冰 周绍民 《应用化学》 CAS CSCD 北大核心 2002年第3期280-284,共5页
研究了 H2 SO4 +Cu SO4 电解液分别在静止、机械搅拌和空气搅拌作用下 ,电流密度对所获得的铜电沉积层晶体取向和表面形貌的影响 .XRD和 SEM实验结果都表明 ,电流密度是造成 Cu镀层织构和表面形貌变化的主要原因 .电流密度低于 6.0 A/d... 研究了 H2 SO4 +Cu SO4 电解液分别在静止、机械搅拌和空气搅拌作用下 ,电流密度对所获得的铜电沉积层晶体取向和表面形貌的影响 .XRD和 SEM实验结果都表明 ,电流密度是造成 Cu镀层织构和表面形貌变化的主要原因 .电流密度低于 6.0 A/dm2 时 ,Cu镀层呈现 (1 1 0 )晶面择优 ;高于 1 5 .0 A/dm2 时 ,呈现(1 1 1 )晶面择优 .随电流密度提高 ,Cu电结晶由侧向生长模式转向向上生长模式 .搅拌作用的加强有利于晶体的生长 . 展开更多
关键词 电沉积 Cu镀层 晶体取向 表面形貌 搅拌 电流密度 铜 电镀 织构
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高择优取向Cu电沉积层的XRD研究 被引量：36
5
作者 辜敏 杨防祖 +2 位作者 黄令 姚士冰 周绍民 《电化学》 CAS CSCD 2002年第3期282-287,共6页
采用电化学和XRD方法在CuSO4 +H2 SO4 电解液中获得Cu电沉积层并研究其结构 .结果表明 ,在 4 .0A/dm2 和 15 .0A/dm2 电流密度下可分别获得 (2 2 0 )和 (111)晶面高择优取向Cu镀层 ;Cu镀层晶面织构度随厚度提高而增大 ,获得 (111)晶面... 采用电化学和XRD方法在CuSO4 +H2 SO4 电解液中获得Cu电沉积层并研究其结构 .结果表明 ,在 4 .0A/dm2 和 15 .0A/dm2 电流密度下可分别获得 (2 2 0 )和 (111)晶面高择优取向Cu镀层 ;Cu镀层晶面织构度随厚度提高而增大 ,获得 (111)晶面高择优Cu镀层的厚度约是 (2 2 0 )晶面的 7倍 ,说明Cu(2 2 0 )晶面比 (111)晶面是更易保留的晶面 ,且低电流密度下铜的电结晶更容易受电沉积条件控制 ;较高的沉积电流密度有利于晶核的形成 ; 展开更多
关键词 CU 电沉积层 XRD 电沉积 结构 铜镀层
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以次磷酸钠为还原剂的化学镀铜 被引量：32
6
作者 杨防祖 吴丽琼 +2 位作者 黄令 郑雪清 周绍民 《电镀与精饰》 CAS 2004年第4期7-9,24,共4页
研究了以次磷酸钠为还原剂、硫酸镍为再活化剂的化学镀铜工艺和镀层结构,指出工艺的基本特性。结果表明,在含有次磷酸钠和硫酸镍的镀液中,化学镀铜过程可以持续进行并呈现自催化特性;只有在合适的镀液pH范围内才可获得铜镀层;铜镀层为... 研究了以次磷酸钠为还原剂、硫酸镍为再活化剂的化学镀铜工艺和镀层结构,指出工艺的基本特性。结果表明,在含有次磷酸钠和硫酸镍的镀液中,化学镀铜过程可以持续进行并呈现自催化特性;只有在合适的镀液pH范围内才可获得铜镀层;铜镀层为面心立方结构,没有明显的晶面择优取向现象,镀层结构的晶面间距d和晶胞参数a与标准Cu粉末的相比均较大,说明铜镀层仍存在应力和缺陷。 展开更多
关键词 次磷酸钠 还原剂 化学镀铜 硫酸镍 自催化
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镍钨磷合金电结晶机理及其镀层结构与显微硬度 被引量：11
7
作者 杨防祖 牛振江 +2 位作者 曹刚敏 许书楷 周绍民 《物理化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2000年第11期1022-1027,共6页
应用循环伏安、恒电位阶跃和 X射线衍射（ XRD）等方法研究了 Ni-W-P合金电沉积特点和镀层结构与显微硬度 .结果表明，在以柠檬酸铵为配体的溶液中， Ni-W-P合金沉积层较 Ni-W合金有较低的电化学活性 .根据电位阶跃的 i～ t曲线分析表... 应用循环伏安、恒电位阶跃和 X射线衍射（ XRD）等方法研究了 Ni-W-P合金电沉积特点和镀层结构与显微硬度 .结果表明，在以柠檬酸铵为配体的溶液中， Ni-W-P合金沉积层较 Ni-W合金有较低的电化学活性 .根据电位阶跃的 i～ t曲线分析表明，在玻碳电极上 Ni-W-P合金电结晶过程遵从扩散控制瞬时成核三维成长模式进行，随着过电位的增加，电极表面上晶核数增多 . XRD试验结果表明， Ni-W-P合金镀层呈现明显的非晶态特征 .所获得的 Ni-W-P合金电沉积层的显微硬度在 450 kg· mm－ 2左右 . 展开更多
关键词 镀层 电结晶 结构 合金电沉积 镍钨磷合金
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电沉积非晶态Ni-W-B/ZrO_2复合镀层及其结构与性能 被引量：10
8
作者 杨防祖 马兆海 +2 位作者 黄令 许书楷 周绍民 《物理化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2004年第12期1411-1416,共6页
在含有二氧化锆的Ni-W-B电解液中,电沉积获得Ni-W-B/ZrO2复合镀层.用差示扫描量热分析(DSC)、X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)和电化学技术较系统地研究了Ni-W-B/ZrO2复合镀层的电沉积、热处理过程,以及镀层的结构、表面形貌、显... 在含有二氧化锆的Ni-W-B电解液中,电沉积获得Ni-W-B/ZrO2复合镀层.用差示扫描量热分析(DSC)、X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)和电化学技术较系统地研究了Ni-W-B/ZrO2复合镀层的电沉积、热处理过程,以及镀层的结构、表面形貌、显微硬度和耐腐蚀性能.结果表明,复合镀层的质量组成为Ni47.5%、W40.9%、B0.9%和ZrO210.7%.DSC和XRD结果清楚说明,二氧化锆对基质Ni-W-B镀层的结构有明显影响,使得复合镀层的非晶态结构特征更加明显.复合镀层比Ni-W-B合金有更高的显微硬度,呈现团粒状结构,晶块之间不存在裂纹但晶界清晰可辨;二氧化锆粒子分散于Ni-W-B基质镀层中.400℃、1h热处理后,Ni-W-B基质镀层中W向镀层表面偏析,镀层呈现固溶体晶态结构特征,表面形貌特征基本不变,复合镀层的显微硬度进一步提高,抗腐蚀性能增强,但镀层表层中的二氧化锆粒子大量脱落. 展开更多
关键词 镍基合金 复合镀层 电沉积 非晶态合金 热处理
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电流密度影响下镍钨合金电沉积层的组成、结构和形貌 被引量：10
9
作者 杨防祖 曹刚敏 +3 位作者 解建云 郑雪清 许书楷 周绍民 《厦门大学学报（自然科学版）》 CAS CSCD 北大核心 1999年第1期56-60,共5页
采用分光光度法、Ｘ射线衍射和金相显微镜等方法研究在焦磷酸盐体系中，电流密度影响下所获得的Ｎｉ－Ｗ合金电沉积层的组成、结构和表面形态．结果表明，随着电流密度的提高，合金沉积层中的Ｗ含量增大；形成置换固溶体的合金沉积层晶... 采用分光光度法、Ｘ射线衍射和金相显微镜等方法研究在焦磷酸盐体系中，电流密度影响下所获得的Ｎｉ－Ｗ合金电沉积层的组成、结构和表面形态．结果表明，随着电流密度的提高，合金沉积层中的Ｗ含量增大；形成置换固溶体的合金沉积层晶格参数涨大、晶格畸变度增大、而显微晶粒尺寸减小；合金沉积层的电结晶生长形态均呈现整齐的团粒状生长特征．讨论了上述实验结果． 展开更多
关键词 电沉积层 形态 镍钨合金 形貌 电流密度
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乙醛酸化学镀铜的电化学研究 被引量：17
10
作者 吴丽琼 杨防祖 +2 位作者 黄令 孙世刚 周绍民 《电化学》 CAS CSCD 北大核心 2005年第4期402-406,共5页
以乙醛酸作还原剂,Na2EDTA.2H2O为络合剂,亚铁氰化钾和2,2'-联吡啶为添加剂组成化学镀铜液体系,应用线性扫描伏安法研究分析了络合剂、添加剂对该镀铜体系电化学性能的影响.结果表明,络合剂Na2EDTA对乙醛酸的氧化和铜的还原有阻碍作... 以乙醛酸作还原剂,Na2EDTA.2H2O为络合剂,亚铁氰化钾和2,2'-联吡啶为添加剂组成化学镀铜液体系,应用线性扫描伏安法研究分析了络合剂、添加剂对该镀铜体系电化学性能的影响.结果表明,络合剂Na2EDTA对乙醛酸的氧化和铜的还原有阻碍作用.亚铁氰化钾和过量(20 mg/L)的2,2'-联吡啶对乙醛酸的氧化起较明显的抑制作用. 展开更多
关键词 化学镀铜 乙醛酸 络合剂 添加剂 极化
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添加剂的吸附行为及其对Ni沉积层性能的影响 被引量：10
11
作者 杨防祖 许家园 +2 位作者 谢兆雄 许书楷 周绍民 《物理化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 1995年第3期223-227,共5页
采用电化学及X射线衍射等方法研究有机添加剂苯磺酸钠、苯亚磺酸钠和糖精的吸附作用及其对Ni电沉积层的电化学活性、晶粒尺寸、织构及显微硬度的影响．结果表明，苯亚磺酸钠和糖精使Ni沉积层的电化学活性提高，（111）晶面的织构系数明... 采用电化学及X射线衍射等方法研究有机添加剂苯磺酸钠、苯亚磺酸钠和糖精的吸附作用及其对Ni电沉积层的电化学活性、晶粒尺寸、织构及显微硬度的影响．结果表明，苯亚磺酸钠和糖精使Ni沉积层的电化学活性提高，（111）晶面的织构系数明显增大，而使（290）晶面的织构系数减小，还导致沉积层的晶粒尺寸显著减小和显微硬度提高；然而，苯磺酸钠对沉积层的活性及织构影响很小．讨论了上述添加剂的作用． 展开更多
关键词 添加剂 镍沉积层 电化学活性 苯磺酸钠 糖精
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纳米晶Ni-Mo-Co合金镀层的结构与析氢行为 被引量：13
12
作者 黄令 杨防阻 +1 位作者 许书楷 周绍民 《应用化学》 CAS CSCD 北大核心 2001年第10期767-771,共5页
用电沉积方法制备了纳米 Ni-Mo-Co合金沉积层 ,用 XRD、XPS方法对沉积层的结构进行了表征 ,结果表明 ,Ni-Mo-Co合金出现较大的晶格畸变 ,纳米合金各物种的结合能发生不同程度的位移 .在 3 0 %的KOH溶液中的阴极极化曲线表明 ,Ni-Mo-Co... 用电沉积方法制备了纳米 Ni-Mo-Co合金沉积层 ,用 XRD、XPS方法对沉积层的结构进行了表征 ,结果表明 ,Ni-Mo-Co合金出现较大的晶格畸变 ,纳米合金各物种的结合能发生不同程度的位移 .在 3 0 %的KOH溶液中的阴极极化曲线表明 ,Ni-Mo-Co合金电极具有良好的析氢电催化活性 .电化学的交流阻抗谱表明 ,低过电位时该合金电极上析氢过程为 Volmer-Tafel机理 ,即吸附态的氢经化学脱附形成氢气 ,速率决定步骤是 Volmer反应 ;在较高过电位时析氢反应表现为 Volmer-Heyrovsky机理 。 展开更多
关键词 电沉积 纳米晶Ni-Mo-Co合金 结构 析氢反应 镍钼钴合金 镀层 薄膜材料 电催化活性 电化学交流阻抗谱
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添加剂作用下钯电沉积行为研究 被引量：10
13
作者 杨防祖 黄令 +1 位作者 许书楷 周绍民 《物理化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2004年第5期463-467,共5页
在含有4g·L-1Pd(NH3)2Cl2和104g·L-1NH4H2PO4的闪镀钯基础电解液中,采用极化曲线、循环伏安法和计时安培法研究添加剂作用下钯在玻璃碳电极上的电沉积和电结晶行为.结果表明,添加剂阻化钯的电沉积;钯在玻碳电极上的交换电流... 在含有4g·L-1Pd(NH3)2Cl2和104g·L-1NH4H2PO4的闪镀钯基础电解液中,采用极化曲线、循环伏安法和计时安培法研究添加剂作用下钯在玻璃碳电极上的电沉积和电结晶行为.结果表明,添加剂阻化钯的电沉积;钯在玻碳电极上的交换电流密度很低;钯电沉积过程经历了晶核形成过程,其电结晶机理在不含添加剂时接近于三维连续成核,含添加剂时接近于三维瞬时成核. 展开更多
关键词 添加剂 钯 电沉积行为 电结晶 动力学 玻璃碳电极 扫描速度
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Ni-Mo-PTFE复合电极的制备及其对甲醇电氧化的催化性能 被引量：10
14
作者 黄令 许书楷 +2 位作者 汤皎宁 杨防祖 周绍民 《应用化学》 CAS CSCD 北大核心 1997年第4期21-24,共4页
在０．２２ｍｏｌ／Ｌ硫酸镍，０．０６ｍｏｌ／Ｌ钼酸钠，０．３ｍｏｌ／Ｌ柠檬酸钠，３０ｇ／ＬＰＴＦＥ乳液，０．１ｇ／ＬＦＣ－４００表面活性剂的电解液（ｐＨ＝９）中，于温度４５℃，通以１０ｍＡ／ｃｍ２的电流，在纯Ｃｕ片上... 在０．２２ｍｏｌ／Ｌ硫酸镍，０．０６ｍｏｌ／Ｌ钼酸钠，０．３ｍｏｌ／Ｌ柠檬酸钠，３０ｇ／ＬＰＴＦＥ乳液，０．１ｇ／ＬＦＣ－４００表面活性剂的电解液（ｐＨ＝９）中，于温度４５℃，通以１０ｍＡ／ｃｍ２的电流，在纯Ｃｕ片上沉积出Ｎｉ－Ｍｏ－ＰＴＦＥ复合沉积层，ＸＲＤ、ＸＰＳ表征结果表明，该复合沉积层属立方晶系，其点阵型式为面心点阵Ｆ，晶胞参数ａ为０．３５７３ｎｍ，镍钼合金为固溶体结构，其（１１１）织构度ＴＣ（１１１）为６８％，表明该沉积层呈（１１１）择优取向．沉积层表面的氟以（ＣＦ２）ｎ的形式存在，ＳＥＭ观察结果表明沉积层含有ＰＴＦＥ时表面的粗糙度增大．镍－钼－ＰＴＦＥ复合电沉积过程经历吸附态物种氢氧化镍和钼的氧化物，它们继续捕获电子被还原为镍钼合金，ＰＴＦＥ粒子以包埋的形式沉积于镀层中．循环伏安结果表明该复合电极在ＮａＯＨ溶液中对甲醇的电氧化具有催化活性． 展开更多
关键词 镍 钼 PTFE 复合电极 甲醇 电催化氧化 燃料电池
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镍钨合金电结晶机理 被引量：18
15
作者 李振良 杨防祖 +1 位作者 姚士冰 周绍民 《厦门大学学报（自然科学版）》 CAS CSCD 北大核心 1999年第2期230-234,共5页
应用循环伏安法和电位阶跃法研究了Ｎｉ－Ｗ合金电沉积特点．结果表明，在以柠檬酸铵为络合剂的镀液中，沉积层的Ｗ含量随电流密度的增大而增加但电流效率变化不大，当电流密度超过１５Ａ／ｄｍ２后，镀层的Ｗ含量不再发生明显的变化而... 应用循环伏安法和电位阶跃法研究了Ｎｉ－Ｗ合金电沉积特点．结果表明，在以柠檬酸铵为络合剂的镀液中，沉积层的Ｗ含量随电流密度的增大而增加但电流效率变化不大，当电流密度超过１５Ａ／ｄｍ２后，镀层的Ｗ含量不再发生明显的变化而电流效率却明显降低．循环伏安实验结果表明，当镀液中有Ｎｉ２＋存在时，ＷＯ２－４才能被还原到以Ｎｉ－Ｗ合金形式存在的Ｗ金属态，且其沉积电位比ＷＯ２－４（沉积为钨蓝氧化物）和Ｎｉ２＋单独沉积时的电位更正．根据电位阶跃的ｉ～ｔ曲线分析得知，在玻碳电极上Ｎｉ－Ｗ合金电结晶过程遵从扩散控制瞬时成核三维成长模式进行，且随着过电位的增加，电极表面上晶核数增多． 展开更多
关键词 电沉积 循环伏安 镍钨合金 电结晶
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退火前后镍钨硼合金电沉积层的结构与性能 被引量：8
16
作者 曹刚敏 杨防祖 +3 位作者 黄令 牛振江 许书楷 周绍民 《物理化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2001年第2期150-154,共5页
采用电化学技术、 XPS、 DSC、 XRD等方法研究 Ni-W-B合金电沉积及热处理前后合金镀层的结构和显微硬度 .结果表明，在 Ni-W-B合金电沉积过程中伴随着化学沉积镍等过程以及 Na2B4O7在镀层中的夹杂； Ni-W和 Ni-W-B合金电沉积层分别表现... 采用电化学技术、 XPS、 DSC、 XRD等方法研究 Ni-W-B合金电沉积及热处理前后合金镀层的结构和显微硬度 .结果表明，在 Ni-W-B合金电沉积过程中伴随着化学沉积镍等过程以及 Na2B4O7在镀层中的夹杂； Ni-W和 Ni-W-B合金电沉积层分别表现为纳米晶结构和非晶态结构；热处理过程中合金电沉积层发生晶粒粗化过程以及 Ni-W-B合金镀层发生新相形成过程，产生 Ni4W和镍硼化物如 Ni2B、 Ni3B等沉淀物； 400℃热处理 2 h后 Ni-W合金镀层有最大的显微硬度达 919.8 kg· mm－ 2，而在 500℃下 Ni-W-B合金有最大的硬度达 1132.2 kg· mm－ 2. 展开更多
关键词 镍钨硼合金 电沉积层 结构 显微硬度 热处理 合金电镀
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钢铁基体酒石酸盐碱性无氰镀铜 被引量：15
17
作者 杨防祖 宋维宝 +2 位作者 黄令 姚光华 周绍民 《电镀与精饰》 CAS 北大核心 2009年第6期1-4,20,共5页
以酒石酸盐为络合剂,胺化合物为辅助络合剂,研究钢铁基体上碱性无氰镀铜工艺,探讨了搅拌、镀液温度、pH、ρ(Cu2+)和添加剂对镀层外观的影响。考察了镀液的深镀能力和抗Fe2+、Fe3+、Zn2+及Sn4+杂质能力以及镀层与铁基体的结合力。实验... 以酒石酸盐为络合剂,胺化合物为辅助络合剂,研究钢铁基体上碱性无氰镀铜工艺,探讨了搅拌、镀液温度、pH、ρ(Cu2+)和添加剂对镀层外观的影响。考察了镀液的深镀能力和抗Fe2+、Fe3+、Zn2+及Sn4+杂质能力以及镀层与铁基体的结合力。实验结果表明:可以在宽广的工艺条件下获得光亮的铜镀层;阴极电流效率随温度、pH和ρ(Cu2+)提高而增大,在实验确定的工艺条件下ηκ为82%左右;镀液深镀能力达91%;计时电位曲线试验结果表明,基体上的钝化膜在沉积初期被破坏而处于活化状态,使得铜镀层与钢铁基体有足够的结合力。 展开更多
关键词 无氰镀铜 铁基体 酒石酸盐 电位活化
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铈离子对镍电沉积层择优取向的影响 被引量：10
18
作者 黄令 许书楷 +2 位作者 汤皎宁 杨防祖 周绍民 《高等学校化学学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 1996年第11期1782-1784,共3页
铈离子对镍电沉积层择优取向的影响黄令，许书楷，汤皎宁，杨防祖，周绍民（厦门大学化学系，厦门，３６１００５）关键词电沉积镍，择优取向，Ｘ射线衍射，循环伏安法在金属电沉积过程中，有相当数量的晶粒在沉积层中表现出某种共同的... 铈离子对镍电沉积层择优取向的影响黄令，许书楷，汤皎宁，杨防祖，周绍民（厦门大学化学系，厦门，３６１００５）关键词电沉积镍，择优取向，Ｘ射线衍射，循环伏安法在金属电沉积过程中，有相当数量的晶粒在沉积层中表现出某种共同的取向特征。这种现象称为织构，又称择... 展开更多
关键词 电沉积 镍 择优取向 循环伏安法 铈离子
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电化学沉积研究 被引量：16
19
作者 杨防祖 姚士冰 周绍民 《厦门大学学报（自然科学版）》 CAS CSCD 北大核心 2001年第2期418-426,共9页
概述了电化学沉积研究的发展现状 .介绍了本科研组在电化学沉积和电结晶机理 ,络合剂和添加剂在沉积过程中的作用 ,电化学沉积新工艺和研究方法 ,以及镀层微观结构与性能的关系等方面的主要研究结果 .
关键词 电化学沉积 电结晶机理 络合剂 添加剂 防护-装饰性镀层 合金镀层 微观结构
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玻碳电极上铜电沉积初期行为研究 被引量：10
20
作者 黄令 张睿 +3 位作者 辜敏 杨防阻 许书楷 周绍民 《电化学》 CAS CSCD 2002年第3期263-268,共6页
运用循环伏安和计时安培法研究酸性镀铜溶液中硫酸和 2_巯基苯骈咪唑对铜电沉积初期行为的影响 .实验表明铜的电沉积经历了晶核形成过程 ,其电结晶按瞬时成核三维生长方式进行 ,硫酸对铜的电沉积具有加速作用 ,而 2_巯基苯骈咪唑对铜的... 运用循环伏安和计时安培法研究酸性镀铜溶液中硫酸和 2_巯基苯骈咪唑对铜电沉积初期行为的影响 .实验表明铜的电沉积经历了晶核形成过程 ,其电结晶按瞬时成核三维生长方式进行 ,硫酸对铜的电沉积具有加速作用 ,而 2_巯基苯骈咪唑对铜的电沉积起阻化作用 。 展开更多
关键词 玻碳电极 铜 电沉积 电结晶 硫酸 2-巯基苯骈咪唑 循环伏安 计量安培法
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