原位生成WC-B_4C增强镍基激光熔覆层及其性能研究 被引量：17

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作者 周思华 晁明举 +1 位作者 刘奎立 郭艳花 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第3期25-30,共6页

目的通过激光熔覆技术,在Q235钢表面原位生成WC-B4C增强镍基熔覆层。方法以WO3,B2O3,C和Ni60混合粉末为预涂原料,采用激光熔覆技术原位生成WC-B4C增强镍基熔覆层,对熔覆层的显微组织和物相构成进行分析,研究其摩擦磨损性能。结果采用合... 目的通过激光熔覆技术,在Q235钢表面原位生成WC-B4C增强镍基熔覆层。方法以WO3,B2O3,C和Ni60混合粉末为预涂原料,采用激光熔覆技术原位生成WC-B4C增强镍基熔覆层,对熔覆层的显微组织和物相构成进行分析,研究其摩擦磨损性能。结果采用合适的工艺参数,通过原位生成WC-B4C形成的增强镍基涂层形貌良好,与基材呈现较好的冶金结合。熔覆层平均硬度1200HV0.3,摩擦磨损失重仅为纯Ni60熔覆层的1/3。结论熔覆层硬度较高,耐磨性很好。大量原位生成的WC-B4C增强相及其均匀分布是熔覆层硬度和耐磨性提高的原因。 展开更多

关键词 激光熔覆 原位生成WC-B4C 显微组织 耐磨性

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光波相位梯度对负折射和负反射的影响

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作者 周思华 郭艳花 周小东 《河南理工大学学报（自然科学版）》 CAS 北大核心 2016年第6期888-892,共5页

为进一步研究异常折射和反射定律,用Matlab仿真模拟了广义斯涅尔定律。模拟结果显示,入射角θ_i大于θ_(rc)(临界角)时反射光消失,θ_(rc)随着相位梯度的增大而减小变为负值,出现负反射;入射角θ_i大于θ_(tc)(临界角)时折射光消失而出... 为进一步研究异常折射和反射定律,用Matlab仿真模拟了广义斯涅尔定律。模拟结果显示,入射角θ_i大于θ_(rc)(临界角)时反射光消失,θ_(rc)随着相位梯度的增大而减小变为负值,出现负反射;入射角θ_i大于θ_(tc)(临界角)时折射光消失而出现全反射,随着相位梯度的增大θ_(tc)减小变为负值,出现负折射。适当选择相位梯度,可以使入射光发生异常反射和折射,这些现象将会在隐身、相位调制和光束控制等领域得到广泛应用。 展开更多

关键词 超表面 斯涅耳定律 MATLAB仿真 相位梯度

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适用于工业物联网的基于证书的代理聚合签名方案 被引量：2

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作者 周思华 邓伦治 《贵州师范大学学报（自然科学版）》 CAS 北大核心 2024年第1期68-75,共8页

随着工业物联网的发展,数据拥有方需要对大量的数据进行处理,同时,对数据的收集和传送效率提出更高的要求。在工业物联网系统中,数据拥有方领导为了减少工作量,可以通过授权部门主管对数据进行相关处理。密码学中,代理聚合签名可以安全... 随着工业物联网的发展,数据拥有方需要对大量的数据进行处理,同时,对数据的收集和传送效率提出更高的要求。在工业物联网系统中,数据拥有方领导为了减少工作量,可以通过授权部门主管对数据进行相关处理。密码学中,代理聚合签名可以安全可靠的实现权利的委托授权,同时通过签名的聚合后,减少了数据的存储空间,提高数据的传输效率和验证效率。因此,设计一个高效的代理聚合签名方案是有必要的。首先,提出了一个适用于工业物联网的高效安全的基于证书的代理聚合签名方案。其次,在随机预言模型下,基于椭圆曲线上离散对数困难问题,给出了安全性证明。最后,通过与其他代理聚合签名方案计算效率和安全性的比较,结果表明新方案的计算效率更高。 展开更多

关键词 代理签名 聚合签名 随机预言模型 工业物联网

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电弧离子镀制备TiSiN纳米复合涂层 被引量：14

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作者 田灿鑫 周小东 +2 位作者 周思华 杨兵 付德君 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第8期15-19,37,共6页

目的在SiH4气氛下制备Si掺杂的TiSiN纳米复合涂层,为SiH4用于工业化TiSiN涂层生产提供依据。方法采用电弧离子镀技术,在SiH4气氛下,于单晶硅和硬质合金衬底上制备Si掺杂的TiSiN纳米复合涂层,研究SiH4流量对TiSiN涂层化学组分、微观结构... 目的在SiH4气氛下制备Si掺杂的TiSiN纳米复合涂层,为SiH4用于工业化TiSiN涂层生产提供依据。方法采用电弧离子镀技术,在SiH4气氛下,于单晶硅和硬质合金衬底上制备Si掺杂的TiSiN纳米复合涂层,研究SiH4流量对TiSiN涂层化学组分、微观结构、硬度和耐磨性能的影响。结果 SiH4流量对TiSiN纳米复合涂层的微观结构、硬度及摩擦系数的影响明显。随着SiH4流量的增加,TiSiN涂层由柱状晶生长的晶体结构逐渐转变为纳米晶镶嵌于非晶基体的复合结构。Si在涂层中以Si3N4非晶相存在,随着涂层中Si含量逐渐增加,TiN晶粒尺寸逐渐减小,Si3N4起到细化晶粒的作用。在42 m L/min的SiH4流量下,涂层硬度高达4100HV0.025。在对磨材料为硬质合金的条件下,TiSiN涂层摩擦系数小于0.6。结论 SiH4气氛下可以制备出Ti N纳米晶镶嵌于Si3N4非晶相结构的TiSiN纳米复合涂层,涂层的显微硬度较高。SiH4可以作为Si源用于TiSiN纳米复合涂层的工业化生产。 展开更多

关键词 电弧离子镀 TiSiN纳米复合涂层 SiH4流量 力学性能 硬度 摩擦系数

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准高频介质阻挡放电功率及负载等效参数测量 被引量：10

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作者 刘平 郭艳花 周思华 《高电压技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第4期1011-1015,共5页

为了解准高频条件下介质阻挡放电特性以及实现等离子体电源与放电管之间的匹配,采用Q-ULissajous图形法研究了外加电压幅值和频率对介质阻挡放电(DBD)的放电功率、等效电容等放电参量的影响。试验结果表明,增大外加电压幅值和工作频率,... 为了解准高频条件下介质阻挡放电特性以及实现等离子体电源与放电管之间的匹配,采用Q-ULissajous图形法研究了外加电压幅值和频率对介质阻挡放电(DBD)的放电功率、等效电容等放电参量的影响。试验结果表明,增大外加电压幅值和工作频率,微放电通道发光强度增强,传输电荷能力增强,放电功率增大;随着外加电压幅值和工作频率的增大,放电管总等效电容C在1.350～1.356nF范围内变化,电介质等效电容Cd增大,放电间隙等效电容Cg减小,直至放电稳定时Cd和Cg分别达到稳定值。 展开更多

关键词 介质阻挡放电 Q-U Lissajous图形法 电源频率 电压幅值 等效电路 放电功率 等效电容

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Li掺杂NiO纳米纤维的制备及其气敏性能 被引量：2

6

作者 袁焕丽 周思华 《材料科学与工程学报》 CAS CSCD 北大核心 2015年第5期764-767,共4页

以PVP和Ni(CH3COO)2·4H2O为原料采用静电纺丝法制备了Li掺杂的NiO纳米纤维,系统研究了不同浓度的Li掺杂对NiO纳米纤维的HCHO气体敏感性能的影响。实验结果表明,当Li的掺杂量为0.02mol时,NiO纳米纤维对HCHO气体具有最佳的气敏特性;... 以PVP和Ni(CH3COO)2·4H2O为原料采用静电纺丝法制备了Li掺杂的NiO纳米纤维,系统研究了不同浓度的Li掺杂对NiO纳米纤维的HCHO气体敏感性能的影响。实验结果表明,当Li的掺杂量为0.02mol时,NiO纳米纤维对HCHO气体具有最佳的气敏特性;在HCHO气体的体积分数为2000ppm,温度为300℃时,此NiO纳米纤维对HCHO气体的灵敏度为12.12。 展开更多

关键词 NiO纳米纤维 气敏特性 静电纺丝 掺杂

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Mn掺杂SiC基稀磁半导体薄膜的结构和磁性研究

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作者 孙现科 周小东 +3 位作者 周思华 王少辉 蒋卫华 孙春梅 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第7期45-49,共5页

目的从原子水平探究Mn掺杂SiC薄膜的磁性起源。方法采用射频磁控溅射技术制备不同掺杂浓度的Mn掺杂SiC薄膜,并采用X射线衍射技术、X光电子能谱、同步辐射X射线近边吸收精细结构技术、物理性质测试系统对薄膜的结构、组分和磁性能进行研... 目的从原子水平探究Mn掺杂SiC薄膜的磁性起源。方法采用射频磁控溅射技术制备不同掺杂浓度的Mn掺杂SiC薄膜,并采用X射线衍射技术、X光电子能谱、同步辐射X射线近边吸收精细结构技术、物理性质测试系统对薄膜的结构、组分和磁性能进行研究。结果晶体结构和成分分析表明,1200℃退火后的薄膜形成了3C-SiC晶体结构,且随着Mn掺杂浓度的增加,3C-SiC晶体的特征峰向低角度移动。在Mn掺杂浓度(以原子数分数计)为3%,5%,7%的薄膜中,掺杂的Mn原子以Mn2+的形式存在;而在9%Mn掺杂的SiC薄膜中,则有第二相化合物Mn4Si7形成。局域结构分析表明,薄膜中均不存在Mn金属团簇和氧化物,在3%,5%和7%Mn掺杂的薄膜中,掺杂的Mn原子主要以代替C位的形式进入3C-SiC晶格中,而在9%Mn掺杂的薄膜中,掺杂的Mn原子以C替位形式和Mn4Si7共存。磁性测试表明,制备的Mn掺杂SiC薄膜具有室温铁磁性,且饱和磁化强度随着Mn掺杂浓度的提高而增加。结论薄膜的室温铁磁性是本征的,磁性来源与掺杂的Mn原子以Mn2+取代SiC晶格中C位后导致的缺陷有关,符合缺陷导致的束缚磁极子机制。 展开更多

关键词 磁控溅射 SIC MN掺杂 铁磁性 缺陷

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Si掺杂TiSiN涂层的结构特征及力学性能

8

作者 周思华 周小东 +2 位作者 郭艳花 李韶峰 孙现科 《科学技术与工程》 北大核心 2018年第1期218-221,共4页

通过射频磁控溅射在单晶硅(111)和硬质合金衬底上制备Si掺杂的TiSiN纳米复合涂层。采用双靶溅射技术,保持Ti靶功率不变,改变Si靶的功率以获得Si含量不同的TiSiN纳米复合涂层。用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)和显微硬度计表征T... 通过射频磁控溅射在单晶硅(111)和硬质合金衬底上制备Si掺杂的TiSiN纳米复合涂层。采用双靶溅射技术,保持Ti靶功率不变,改变Si靶的功率以获得Si含量不同的TiSiN纳米复合涂层。用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)和显微硬度计表征TiSiN涂层的结构、成分、形貌和硬度。研究结果表明,Si靶溅射功率对TiSiN涂层的结构和力学性能影响较大。随着Si靶溅射功率的增加,TiN晶粒特征峰由(111)向(200)转变,在20 W的Si靶溅射功率下(111)面取向最优。涂层厚度随着功率的增大呈现先增大后减小的趋势。Si以非晶相Si_3N_4的形式存在;随着Si含量的增加表面晶粒得到细化,在20 W的Si靶溅射功率下,涂层晶体生长致密光滑,涂层硬度高达2 600 HV。 展开更多

关键词 TiSiN涂层 Si掺杂 磁控溅射 纳米复合

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肉狗饲粮调制法

9

作者 周思华 《农村新技术》 1999年第4期30-30,共1页

关键词 肉狗 犬 饲粮调制法

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保温保湿运苗车的研制

10

作者 周思华 韩风 《林业机械》 1993年第5期8-8,11,共2页

保温保湿运苗车,目前在大兴安岭塔河林业局广泛用于苗木的春运、秋运。它对苗木抗生理干旱起了决定性作用,同时对提高苗木的成活率也具有十分重要的意义。 1 问题的提出在人工更新造林过程中,苗木的强壮是非常重要的,苗圃现行的作业程序... 保温保湿运苗车,目前在大兴安岭塔河林业局广泛用于苗木的春运、秋运。它对苗木抗生理干旱起了决定性作用,同时对提高苗木的成活率也具有十分重要的意义。 1 问题的提出在人工更新造林过程中,苗木的强壮是非常重要的,苗圃现行的作业程序:起苗→假植→入窖→春运→假植(林场临时假植或造林地区假植)→栽植。其中,春运最关键,苗木死亡率也高。根据1989年统计。 展开更多

关键词 运苗车 保温 保湿

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Co掺杂浓度对SiC薄膜磁性能的影响

11

作者 郭艳花 周思华 +1 位作者 孙现科 周小东 《河南理工大学学报（自然科学版）》 CAS 北大核心 2020年第2期152-156,共5页

为了研究掺杂元素Co对SiC薄膜磁性影响,采用磁控溅射技术制备了不同Co含量的SiC薄膜。采用XRD、X光电子能谱和理性质测试系统对薄膜结构、成分和磁性进行表征。分析表明,薄膜具有3C-SiC晶体结构,随着掺杂元素Co增加,3C-SiC晶体特征峰向... 为了研究掺杂元素Co对SiC薄膜磁性影响,采用磁控溅射技术制备了不同Co含量的SiC薄膜。采用XRD、X光电子能谱和理性质测试系统对薄膜结构、成分和磁性进行表征。分析表明,薄膜具有3C-SiC晶体结构,随着掺杂元素Co增加,3C-SiC晶体特征峰向小角度移动。掺杂元素以Co 2+形式存在,形成CoSi第二相化合物,随着Co掺杂浓度增加,CoSi第二相化合物含量增多。磁性测试显示,掺有Co元素的SiC薄膜在室温下具有铁磁性,随着Co含量增加,薄膜的饱和磁化强度先增大后减小。掺杂Co原子进入SiC晶格后形成的缺陷是产生薄膜磁性的原因,属于掺杂缺陷诱导产生的铁磁性,而第二相化合物CoSi抑制了薄膜的铁磁性。 展开更多

关键词 SIC薄膜 CO掺杂 铁磁性 掺杂缺陷

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