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“互联网+”背景下的混合式教学探索与应用研究——以“机械设计基础”课程为例 被引量:1
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作者 梁海澄 吴任和 《工业和信息化教育》 2024年第11期70-75,共6页
“互联网+”时代下,信息技术的飞速发展,使混合式教学成为当前教学改革的热点。混合式教学将在线教学与传统课堂进行有机结合,是一种创新的教学方式。文章首先从教学设计理论的角度,对混合式教学进行了探讨,并以机械设计与制造专业核心... “互联网+”时代下,信息技术的飞速发展,使混合式教学成为当前教学改革的热点。混合式教学将在线教学与传统课堂进行有机结合,是一种创新的教学方式。文章首先从教学设计理论的角度,对混合式教学进行了探讨,并以机械设计与制造专业核心课程“机械设计基础”作为教学改革案例,对课程进行混合式教学设计,将教学过程分为课前引导、自主学习、课堂讲解、互动讨论等主要环节,然后进行了混合式教学实施,并分析了教学效果。实践表明,“机械设计基础”课程的混合式教学既发挥了教师引导和监督学习过程的作用,又调动了学生的主观能动性,使学生养成自主学习的习惯,提高了教学成效。 展开更多
关键词 混合式教学 机械设计 教学设计 教学实施
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基于PLC控制的在线动态称重分拣系统 被引量:2
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作者 吴任和 周文玲 李相伟 《饮料工业》 2014年第1期55-57,共3页
介绍了一种新型的高精度动态称重系统,其特点是能快速准确地对生产线产品进行实时称重,实时计算、存储和显示数据,并根据数据对产品进行分拣、分级筛选和剔除。硬件上采用PLC控制、触摸屏操作,软件上设置限幅斜率滤波的软件算法,设计了... 介绍了一种新型的高精度动态称重系统,其特点是能快速准确地对生产线产品进行实时称重,实时计算、存储和显示数据,并根据数据对产品进行分拣、分级筛选和剔除。硬件上采用PLC控制、触摸屏操作,软件上设置限幅斜率滤波的软件算法,设计了对应的软件滤波程序,提高数据处理精度和效率。实验结果表明,该系统运行精确可靠。该设备具有精度高,成本低,运行可靠,界面显示大方,操作简便以及拓展功能多等特点,简单易用,工作稳定,大大降低劳动强度和产品成本。 展开更多
关键词 动态称重 滤波 PLC控制
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磁头研抛工艺规律研究
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作者 吴任和 申儒林 《中山大学学报论丛》 2007年第8期282-285,共4页
计算机硬盘其存储容量的发展要求不断降低磁头在硬盘表面的飞行高度,从而要求硬盘磁头的表面粗糙度越来越小。分析一种目前普遍应用于工业的技术:浮法抛光法,研究其研抛工作时工艺参数对磁头表面的影响情况,寻求一个何时的研抛参数和影... 计算机硬盘其存储容量的发展要求不断降低磁头在硬盘表面的飞行高度,从而要求硬盘磁头的表面粗糙度越来越小。分析一种目前普遍应用于工业的技术:浮法抛光法,研究其研抛工作时工艺参数对磁头表面的影响情况,寻求一个何时的研抛参数和影响因素,以求达到快速加工,降低成本。 展开更多
关键词 磁头 研抛工艺参数 表面粗糙度
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中等粒度纳米金刚石用于磁头抛光的工艺 被引量:4
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作者 龚艳玲 肖刚 +1 位作者 吴任和 申儒林 《中南大学学报(自然科学版)》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第4期610-614,共5页
采用浮动块研磨抛光机,研究中等粒度纳米金刚石抛光液用于硬盘磁头抛光时其颗粒大小及其悬浮液的分散稳定性与磁头表面质量的关系,以及抛光各工序、运行参数与表面质量的关系。磁头表面质量采用原子力显微镜观测分析。通过对抛光过程运... 采用浮动块研磨抛光机,研究中等粒度纳米金刚石抛光液用于硬盘磁头抛光时其颗粒大小及其悬浮液的分散稳定性与磁头表面质量的关系,以及抛光各工序、运行参数与表面质量的关系。磁头表面质量采用原子力显微镜观测分析。通过对抛光过程运行参数的正交实验,对中等粒度纳米金刚石用于磁头抛光的工艺过程进行优化。实验结果表明:磁头表面粗糙度随着金刚石粒径的减小而减小,但二者并不呈线性关系;抛光液的分散稳定性比抛光液颗粒粒径更能影响表面划痕的深度;精研磨能有效去除表面划痕;而抛光能有效降低表面粗糙度,但其对划痕的消除不如精磨有效;各参数对表面粗糙度和划痕的影响程度不同,但是优化后参数取值相同。 展开更多
关键词 纳米金刚石 悬浮液 磁头 抛光
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浮动块研磨抛光机研磨磁头的表面去除分析 被引量:3
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作者 申儒林 吴任和 钟掘 《中南大学学报(自然科学版)》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第6期1021-1025,共5页
对浮动块研磨抛光机的运动学方程进行研究结果表明研磨时,任意磁头上任意一点的运动轨迹是周期性的,这种运动周期的重复性与工作圆环的角速度ω2和研磨盘的角速度ω1之比有关;当浮动块研磨抛光机在理想状态工作下时,ω1=ω2,此时,任意... 对浮动块研磨抛光机的运动学方程进行研究结果表明研磨时,任意磁头上任意一点的运动轨迹是周期性的,这种运动周期的重复性与工作圆环的角速度ω2和研磨盘的角速度ω1之比有关;当浮动块研磨抛光机在理想状态工作下时,ω1=ω2,此时,任意磁头上任意一点移动的路程相等,表明磁头表面去除率相同,但其轨迹的重复性太强。在实际工作中,磁头表面能取得均化的研磨条纹,而整个研磨平面的平整精度却不一定很高;任意一点在每周期移动的路程长度与角速度ω和偏心距e有关,ω和e越大,周期路程越长。而周期路程较短,表明轨迹的方向改变愈频繁,有利于获得愈好的表面质量,只是去除率降低。因此,粗研磨时,宜取较高的转速以提高效率;而精研磨时,宜取较低的转速以提高表面质量。 展开更多
关键词 磁头 研磨 抛光 去除率
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