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变幅法求解双滚珠动态自平衡机理
1
作者
陈晓哲
钟山
+1 位作者
周佰通
史伟业
《东北大学学报(自然科学版)》
北大核心
2025年第5期46-53,共8页
基于单盘转子模型,采用变幅法探究了双滚珠自动平衡装置的动态自平衡机理.通过拉格朗日方程建立系统控制方程,推导了4种工况下的幅频特性方程.基于变幅法设解形式直接构建雅可比矩阵,避免了传统方法中稳态方程的分情况讨论,并结合劳斯-...
基于单盘转子模型,采用变幅法探究了双滚珠自动平衡装置的动态自平衡机理.通过拉格朗日方程建立系统控制方程,推导了4种工况下的幅频特性方程.基于变幅法设解形式直接构建雅可比矩阵,避免了传统方法中稳态方程的分情况讨论,并结合劳斯-赫尔维兹判据获得系统稳定性条件.数值分析表明:系统在共振下区间振动加剧;在共振上区间,仅当参数满足完全平衡条件时出现零振幅运动,此时滚珠跳跃至相对质心一侧,实现完全或部分平衡.研究结果通过时域仿真验证,为滚珠自动平衡装置的设计与优化提供了理论依据.
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关键词
变幅法
转子
滚珠
稳定性
共振
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职称材料
VUV/UV/NaClO去除水中抗生素并控制消毒副产物
被引量：
3
2
作者
王营营
刘娅
+2 位作者
马德方
史伟业
高宝玉
《中国环境科学》
CSCD
北大核心
2023年第S1期88-94,共7页
考察了VUV/UV/NaClO工艺对磺胺甲噁唑(SMX)的去除效能及消毒副产物卤乙酸(HAAs)的生成情况,分析了光源、共存阴离子和溶解性有机质的影响.再生水中常见的阴离子(溴离子、硫酸根)、低浓度(≤3mg/L,以TOC计)多糖和蛋白对SMX的降解无显著影...
考察了VUV/UV/NaClO工艺对磺胺甲噁唑(SMX)的去除效能及消毒副产物卤乙酸(HAAs)的生成情况,分析了光源、共存阴离子和溶解性有机质的影响.再生水中常见的阴离子(溴离子、硫酸根)、低浓度(≤3mg/L,以TOC计)多糖和蛋白对SMX的降解无显著影响;但高浓度(30mg/L)蛋白使SMX的降解率由100%降为53.5%,腐殖酸浓度从0提高到30mg/L,30min后SMX均能完全降解,但是SMX降解速率下降了68%,体系的矿化去除率降低了43.9%.共存溴离子和腐植酸极大地促进了HAAs的生成,且随浓度的增加而增加.VUV/UV/NaClO与UV/NaClO相比,对SMX的降解效率无显著差别,但矿化去除率提升了44%,且使HAAs生成量降低了98%,总毒性降低了96.5%.由此可见,VUV/UV/NaClO工艺有望成为比UV/NaClO更为优越的消毒工艺应用到实际再生水处理中.
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关键词
真空紫外/氯
磺胺类抗生素
降解
消毒副产物
毒性风险值
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职称材料
题名
变幅法求解双滚珠动态自平衡机理
1
作者
陈晓哲
钟山
周佰通
史伟业
机构
东北大学秦皇岛分校控制工程学院
出处
《东北大学学报(自然科学版)》
北大核心
2025年第5期46-53,共8页
基金
国家自然科学基金资助项目(51905081)
中央高校基本科研业务费专项资金资助项目(N2223028)。
文摘
基于单盘转子模型,采用变幅法探究了双滚珠自动平衡装置的动态自平衡机理.通过拉格朗日方程建立系统控制方程,推导了4种工况下的幅频特性方程.基于变幅法设解形式直接构建雅可比矩阵,避免了传统方法中稳态方程的分情况讨论,并结合劳斯-赫尔维兹判据获得系统稳定性条件.数值分析表明:系统在共振下区间振动加剧;在共振上区间,仅当参数满足完全平衡条件时出现零振幅运动,此时滚珠跳跃至相对质心一侧,实现完全或部分平衡.研究结果通过时域仿真验证,为滚珠自动平衡装置的设计与优化提供了理论依据.
关键词
变幅法
转子
滚珠
稳定性
共振
Keywords
variation amplitude method
rotor
ball
stability
resonance
分类号
TH113.1 [机械工程—机械设计及理论]
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职称材料
题名
VUV/UV/NaClO去除水中抗生素并控制消毒副产物
被引量：
3
2
作者
王营营
刘娅
马德方
史伟业
高宝玉
机构
山东大学环境科学与工程学院
山东省第一地质矿产勘查院
出处
《中国环境科学》
CSCD
北大核心
2023年第S1期88-94,共7页
基金
国家自然科学基金资助项目(51808316)
文摘
考察了VUV/UV/NaClO工艺对磺胺甲噁唑(SMX)的去除效能及消毒副产物卤乙酸(HAAs)的生成情况,分析了光源、共存阴离子和溶解性有机质的影响.再生水中常见的阴离子(溴离子、硫酸根)、低浓度(≤3mg/L,以TOC计)多糖和蛋白对SMX的降解无显著影响;但高浓度(30mg/L)蛋白使SMX的降解率由100%降为53.5%,腐殖酸浓度从0提高到30mg/L,30min后SMX均能完全降解,但是SMX降解速率下降了68%,体系的矿化去除率降低了43.9%.共存溴离子和腐植酸极大地促进了HAAs的生成,且随浓度的增加而增加.VUV/UV/NaClO与UV/NaClO相比,对SMX的降解效率无显著差别,但矿化去除率提升了44%,且使HAAs生成量降低了98%,总毒性降低了96.5%.由此可见,VUV/UV/NaClO工艺有望成为比UV/NaClO更为优越的消毒工艺应用到实际再生水处理中.
关键词
真空紫外/氯
磺胺类抗生素
降解
消毒副产物
毒性风险值
Keywords
VUV/UV/NaClO
SMX
degradation
disinfection by-products
toxicity risk value(TRV)
分类号
X703 [环境科学与工程—环境工程]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
变幅法求解双滚珠动态自平衡机理
陈晓哲
钟山
周佰通
史伟业
《东北大学学报(自然科学版)》
北大核心
2025
0
在线阅读
下载PDF
职称材料
2
VUV/UV/NaClO去除水中抗生素并控制消毒副产物
王营营
刘娅
马德方
史伟业
高宝玉
《中国环境科学》
CSCD
北大核心
2023
3
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职称材料
已选择
0
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参考文献
引证文献
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