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直流和脉冲工作的VDMOS可靠性试验
被引量:
5
1
作者
单尼娜
吕长志
+2 位作者
马卫东
李志国
郭春生
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
2010年第2期172-175,共4页
基于恒定电应力温度斜坡法(CETRM),对工作于直流状态和脉冲状态下的VDMOS功率器件进行可靠性研究,考察了器件阈值电压、跨导以及导通电阻的退化情况,得出在两种工作状态下均是跨导为失效敏感参数。在直流工作状态下,VDMOS失效激...
基于恒定电应力温度斜坡法(CETRM),对工作于直流状态和脉冲状态下的VDMOS功率器件进行可靠性研究,考察了器件阈值电压、跨导以及导通电阻的退化情况,得出在两种工作状态下均是跨导为失效敏感参数。在直流工作状态下,VDMOS失效激活能为0.57~0.68ev,寿命为7.97×10^5—1.15×10^7h;在脉冲工作状态下,VDMOS失效激活能为0.66~0.7eV,寿命为4.3×10^5-4.6×10×10^6h。对跨导的退化机理进行了分析。
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关键词
纵向双扩散金属氧化物半导体
激活能
寿命
恒定电应力温度斜坡法
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职称材料
高频硅PNP晶体管3CG120高温失效机理研究
被引量:
3
2
作者
王立新
单尼娜
+2 位作者
夏洋
宋李梅
韩郑生
《电子设计工程》
2012年第11期76-78,81,共4页
为了保证在高温条件下,正确使用高频硅PNP晶体管3CG120,文中对3CG120在不同温度段的失效机理进行了研究。通过对硅PNP型晶体管3CG120进行170~340℃温度范围内序进应力加速寿命试验,发现在170~240℃,240~290℃,以及290~340℃分别具...
为了保证在高温条件下,正确使用高频硅PNP晶体管3CG120,文中对3CG120在不同温度段的失效机理进行了研究。通过对硅PNP型晶体管3CG120进行170~340℃温度范围内序进应力加速寿命试验,发现在170~240℃,240~290℃,以及290~340℃分别具有不同的失效机理,并通过分析得到了保证加速寿命试验中与室温相同的失效机理温度应力范围。
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关键词
高温
失效机理
加速寿命试验
PNP
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职称材料
功率VDMOS晶体管的抗总剂量辐照研究
被引量:
1
3
作者
王立新
单尼娜
+2 位作者
刘刚
韩郑生
夏洋
《核电子学与探测技术》
CAS
CSCD
北大核心
2012年第7期769-771,共3页
对2种不同结构的功率VDMOS晶体管进行了总剂量辐照的试验研究,条形栅结构比元胞型结构具有抗总剂量辐照的结构优势,中国科学院微电子研究所利用条形栅结构制作出高抗总剂量辐照能力的功率VDMOS晶体管,抗总剂量能力可达1 400 krad(Si)以上。
关键词
双扩散场效应晶体管
阈值漂移
条形栅
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职称材料
题名
直流和脉冲工作的VDMOS可靠性试验
被引量:
5
1
作者
单尼娜
吕长志
马卫东
李志国
郭春生
机构
北京工业大学电子信息与控制工程学院可靠性研究室
出处
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
2010年第2期172-175,共4页
文摘
基于恒定电应力温度斜坡法(CETRM),对工作于直流状态和脉冲状态下的VDMOS功率器件进行可靠性研究,考察了器件阈值电压、跨导以及导通电阻的退化情况,得出在两种工作状态下均是跨导为失效敏感参数。在直流工作状态下,VDMOS失效激活能为0.57~0.68ev,寿命为7.97×10^5—1.15×10^7h;在脉冲工作状态下,VDMOS失效激活能为0.66~0.7eV,寿命为4.3×10^5-4.6×10×10^6h。对跨导的退化机理进行了分析。
关键词
纵向双扩散金属氧化物半导体
激活能
寿命
恒定电应力温度斜坡法
Keywords
VDMOS
activation energy
life
CETRM
分类号
TN312.4 [电子电信—物理电子学]
TN306 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
高频硅PNP晶体管3CG120高温失效机理研究
被引量:
3
2
作者
王立新
单尼娜
夏洋
宋李梅
韩郑生
机构
中国科学院微电子研究所
出处
《电子设计工程》
2012年第11期76-78,81,共4页
文摘
为了保证在高温条件下,正确使用高频硅PNP晶体管3CG120,文中对3CG120在不同温度段的失效机理进行了研究。通过对硅PNP型晶体管3CG120进行170~340℃温度范围内序进应力加速寿命试验,发现在170~240℃,240~290℃,以及290~340℃分别具有不同的失效机理,并通过分析得到了保证加速寿命试验中与室温相同的失效机理温度应力范围。
关键词
高温
失效机理
加速寿命试验
PNP
Keywords
high temperature
failure mechanism
accelerated life test
PNP
分类号
TN32 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
功率VDMOS晶体管的抗总剂量辐照研究
被引量:
1
3
作者
王立新
单尼娜
刘刚
韩郑生
夏洋
机构
中国科学院微电子研究所
出处
《核电子学与探测技术》
CAS
CSCD
北大核心
2012年第7期769-771,共3页
文摘
对2种不同结构的功率VDMOS晶体管进行了总剂量辐照的试验研究,条形栅结构比元胞型结构具有抗总剂量辐照的结构优势,中国科学院微电子研究所利用条形栅结构制作出高抗总剂量辐照能力的功率VDMOS晶体管,抗总剂量能力可达1 400 krad(Si)以上。
关键词
双扩散场效应晶体管
阈值漂移
条形栅
Keywords
VDMOS
threshold voltage shift
stripe cell
分类号
TN32 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
直流和脉冲工作的VDMOS可靠性试验
单尼娜
吕长志
马卫东
李志国
郭春生
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
2010
5
在线阅读
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职称材料
2
高频硅PNP晶体管3CG120高温失效机理研究
王立新
单尼娜
夏洋
宋李梅
韩郑生
《电子设计工程》
2012
3
在线阅读
下载PDF
职称材料
3
功率VDMOS晶体管的抗总剂量辐照研究
王立新
单尼娜
刘刚
韩郑生
夏洋
《核电子学与探测技术》
CAS
CSCD
北大核心
2012
1
在线阅读
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职称材料
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