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UV/H_(2)O_(2)高级氧化技术去除新污染物
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作者 张道义 孙文俊 +3 位作者 尹文选 张元娜 邹康兵 刘旦宇 《南水北调与水利科技(中英文)》 北大核心 2025年第4期956-964,共9页
为探究UV/H_(2)O_(2)在给水深度处理中有机物和新污染物去除有效性,以某水厂(珠江水为原水,采用常规处理工艺)砂滤出水为处理对象,构建以UV/H_(2)O_(2)高级氧化技术为核心的深度净水中试系统。基于气相色谱-四极杆飞行时间质谱联用仪(GC... 为探究UV/H_(2)O_(2)在给水深度处理中有机物和新污染物去除有效性,以某水厂(珠江水为原水,采用常规处理工艺)砂滤出水为处理对象,构建以UV/H_(2)O_(2)高级氧化技术为核心的深度净水中试系统。基于气相色谱-四极杆飞行时间质谱联用仪(GC-QTOF MS)技术,对UV/H_(2)O_(2)高级氧化进出水的有机物种类进行全筛查分析,并根据筛查结果重点评估UV/H_(2)O_(2)高级氧化对全氟化合物、抗生素和内分泌干扰物的去除效果。结果表明:长期稳定运行下高锰酸盐指数和TOC平均去除率分别为36%和3.9%左右;UV/H_(2)O_(2)进水中共检出500多种有机物且新污染物相对含量较高,出水检出400多种,表明UV/H_(2)O_(2)对不同有机物的降解效果有显著差异;UV/H_(2)O_(2)高级氧化技术对典型抗生素和内分泌干扰物的去除率分别为2%~100%和38%,全氟化合物去除效果较差(−46%~35%)。全氟化合物出现负去除率的现象可能源于UV/H_(2)O_(2)对长链全氟化合物分步降解机制以及未知前体转化。 展开更多
关键词 UV/H_(2)O_(2)高级氧化 有机物全筛查 新污染物 给水深度处理 中试
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