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自支撑聚酰亚胺/锆膜的制备及性能改善
被引量：
5
1
作者
伍和云
吴永刚
+4 位作者
吕刚
凌磊婕
夏子奂
刘仁臣
唐平林
《强激光与粒子束》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2011年第4期981-984,共4页
采用直流磁控溅射法制备自支撑锆(Zr)膜,采用二步法制备聚酰亚胺(PI)膜,在Zr膜表面沉积PI膜得到自支撑PI/Zr复合膜。均苯四甲酸酐(PMDA)和二甲基二苯醚(ODA)在二甲基乙酰胺(DMAC)中反应得到聚酰胺酸(PAA),然后PAA高温亚胺化得到PI;PI成...
采用直流磁控溅射法制备自支撑锆(Zr)膜,采用二步法制备聚酰亚胺(PI)膜,在Zr膜表面沉积PI膜得到自支撑PI/Zr复合膜。均苯四甲酸酐(PMDA)和二甲基二苯醚(ODA)在二甲基乙酰胺(DMAC)中反应得到聚酰胺酸(PAA),然后PAA高温亚胺化得到PI;PI成膜时采用提拉法成膜。经国家同步辐射实验室计量线站测定,实际测量结果与理论分析一致,PI膜的引入虽然会导致自支撑薄膜透过率有所下降,但在类镍-银软X射线13.9 nm波段PI(200 nm)/Zr(300 nm)和PI(200 nm)/Zr(400 nm)自支撑薄膜的透过率仍然分别达到14.9%和7.5%。
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关键词
自支撑薄膜
聚酰亚胺
聚酰胺酸
二步法
亚胺化
质量吸收系数
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职称材料
自支撑Zr膜制备及软X射线透过性能研究
被引量：
3
2
作者
伍和云
吴永刚
+4 位作者
王振华
吕刚
凌磊婕
夏子奂
陈乃波
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2011年第1期1-4,共4页
软X射线波段滤光膜材料大都为自支撑金属薄膜,实验室环境下自支撑薄膜长期与空气接触表面易氧化,空气中的杂质原子进入自支撑薄膜内部,致使自支撑膜光学性能大幅下降.5 nm至20 nm软X射线波段Zr具有较低的质量吸收系数和较小的密度,在该...
软X射线波段滤光膜材料大都为自支撑金属薄膜,实验室环境下自支撑薄膜长期与空气接触表面易氧化,空气中的杂质原子进入自支撑薄膜内部,致使自支撑膜光学性能大幅下降.5 nm至20 nm软X射线波段Zr具有较低的质量吸收系数和较小的密度,在该波段Zr滤光膜透过率较高.采用脱模剂法制备自支撑Zr膜,在洁净的浮法玻璃上蒸镀一层NaCl做为脱膜剂,直流磁控溅射沉积Zr膜,脱膜后的到自支撑Zr膜.为防止薄膜表面氧化及空气中杂质原子进入薄膜内部,在Zr膜两面各直流磁控溅射沉积一层10 nm厚的C或Si膜作为保护膜,得到C/Zr/C、Si/Zr/Si复合膜,测试结果显示C或Si膜的引入对于自支撑Zr膜光学性能基本无影响.
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关键词
自支撑薄膜
软X射线
脱模剂
磁控溅射
同步辐射
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职称材料
题名
自支撑聚酰亚胺/锆膜的制备及性能改善
被引量：
5
1
作者
伍和云
吴永刚
吕刚
凌磊婕
夏子奂
刘仁臣
唐平林
机构
同济大学物理系
出处
《强激光与粒子束》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2011年第4期981-984,共4页
基金
国家自然科学基金项目(60977028)
上海市基础重点研究课题(09JC1413800)
文摘
采用直流磁控溅射法制备自支撑锆(Zr)膜,采用二步法制备聚酰亚胺(PI)膜,在Zr膜表面沉积PI膜得到自支撑PI/Zr复合膜。均苯四甲酸酐(PMDA)和二甲基二苯醚(ODA)在二甲基乙酰胺(DMAC)中反应得到聚酰胺酸(PAA),然后PAA高温亚胺化得到PI;PI成膜时采用提拉法成膜。经国家同步辐射实验室计量线站测定,实际测量结果与理论分析一致,PI膜的引入虽然会导致自支撑薄膜透过率有所下降,但在类镍-银软X射线13.9 nm波段PI(200 nm)/Zr(300 nm)和PI(200 nm)/Zr(400 nm)自支撑薄膜的透过率仍然分别达到14.9%和7.5%。
关键词
自支撑薄膜
聚酰亚胺
聚酰胺酸
二步法
亚胺化
质量吸收系数
Keywords
free-standing film
polyimide
polyamic acid
two-step process
imidization
mass absorption coefficient
分类号
O614.412 [理学—无机化学]
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职称材料
题名
自支撑Zr膜制备及软X射线透过性能研究
被引量：
3
2
作者
伍和云
吴永刚
王振华
吕刚
凌磊婕
夏子奂
陈乃波
机构
同济大学物理系
出处
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2011年第1期1-4,共4页
基金
国家自然科学基金(No.60977028)
上海市基础重点研究课题(No.09JC1413800)资助
文摘
软X射线波段滤光膜材料大都为自支撑金属薄膜,实验室环境下自支撑薄膜长期与空气接触表面易氧化,空气中的杂质原子进入自支撑薄膜内部,致使自支撑膜光学性能大幅下降.5 nm至20 nm软X射线波段Zr具有较低的质量吸收系数和较小的密度,在该波段Zr滤光膜透过率较高.采用脱模剂法制备自支撑Zr膜,在洁净的浮法玻璃上蒸镀一层NaCl做为脱膜剂,直流磁控溅射沉积Zr膜,脱膜后的到自支撑Zr膜.为防止薄膜表面氧化及空气中杂质原子进入薄膜内部,在Zr膜两面各直流磁控溅射沉积一层10 nm厚的C或Si膜作为保护膜,得到C/Zr/C、Si/Zr/Si复合膜,测试结果显示C或Si膜的引入对于自支撑Zr膜光学性能基本无影响.
关键词
自支撑薄膜
软X射线
脱模剂
磁控溅射
同步辐射
Keywords
Self-supported thin film
Extreme Ultra Violet（EUV）
Release agent
Magnetron sputtering
Synchrotron radiation
分类号
O484 [理学—固体物理]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
自支撑聚酰亚胺/锆膜的制备及性能改善
伍和云
吴永刚
吕刚
凌磊婕
夏子奂
刘仁臣
唐平林
《强激光与粒子束》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2011
5
在线阅读
下载PDF
职称材料
2
自支撑Zr膜制备及软X射线透过性能研究
伍和云
吴永刚
王振华
吕刚
凌磊婕
夏子奂
陈乃波
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2011
3
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职称材料
已选择
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