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低氧与缺血诱导培养海马和皮质神经元钙应答反应的比较 被引量:6
1
作者 李峰 谢瑶 +2 位作者 冯志博 姚志彬 陈以慈 《解剖学杂志》 CAS CSCD 北大核心 2001年第6期504-508,共5页
目的 :钙作为重要信使参与多种生理和病理代谢过程 ,而且在缺血性神经元损伤机制中起着重要的作用。本实验模拟脑缺血的病理生化改变 ,用激光扫描共聚焦显微镜 (LSCM)和Fluo 3荧光探针标记技术 ,观察低氧缺血状态下体外培养的海马、皮... 目的 :钙作为重要信使参与多种生理和病理代谢过程 ,而且在缺血性神经元损伤机制中起着重要的作用。本实验模拟脑缺血的病理生化改变 ,用激光扫描共聚焦显微镜 (LSCM)和Fluo 3荧光探针标记技术 ,观察低氧缺血状态下体外培养的海马、皮质神经元内钙浓度的变化。方法 :用 1 0 0 μmol/L氰化钠造成细胞低氧 ;1 0 0 μmol/L氰化钠和 3.5mmol/L碘醋酸盐模拟在体完全性脑缺血 ;1mmol/LL 谷氨酸模拟在体脑缺血时兴奋性氨基酸大量释放 ;无葡萄糖介质剥夺细胞能量代谢的底物。结果 :低氧使海马神经元 [Ca2 + ]i显著升高 ,但有两种不同的钙振荡现象。谷氨酸引起海马神经元 [Ca2 + ]i持续升高 ,但峰值低于低氧组。缺血组未见 [Ca2 + ]i大幅升高。葡萄糖缺如不引起 [Ca2 + ]i升高。结论 :低氧和谷氨酸引起的神经元损害是能量依赖性的。轻度酸中毒可阻止胞内Ca2 + 升高。糖对神经元具有保护作用 ,但单纯无糖引起的神经元损害与Ca2 + 超载机制无关。 展开更多
关键词 神经元 大脑皮质 海马 低氧 缺血 胞内游离钙
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在麻醉解剖学教学实践中培养学生的临床思维能力 被引量:5
2
作者 陈雪梅 赵青赞 +1 位作者 臧卫东 冯志博 《解剖学杂志》 CAS CSCD 北大核心 2008年第3期396-396,403,共2页
关键词 麻醉解剖学 临床思维能力 教学实践 培养 学生 人体解剖学教学 临床实践 专业基础课
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超量焦亚硫酸钠摄入对小鼠肝细胞超微结构的影响 被引量:1
3
作者 马全祥 韩金珠 +2 位作者 冯志博 袁向山 毛泽善 《解剖学杂志》 CAS CSCD 北大核心 2007年第1期113-114,共2页
关键词 焦亚硫酸钠 超量使用 肝细胞超微结构 小鼠 钠摄入 肝脏超微结构 支气管哮喘 食品添加剂
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采用PSG牺牲层的空腔结构平坦化工艺
4
作者 冯志博 刘启迪 +4 位作者 倪烨 董晟园 张智欣 于海洋 孟腾飞 《微纳电子技术》 CAS 2024年第5期141-148,共8页
对基于微机电系统(MEMS)采用磷硅玻璃(PSG)牺牲层的空腔结构平坦化工艺进行了研究。探讨了抛光液体积流量、抛光压力、抛光液种类对牺牲层抛光速率、均匀性和硅槽台阶高度的影响,并对膜层表面质量进行分析和表征。结果表明:二氧化硅类... 对基于微机电系统(MEMS)采用磷硅玻璃(PSG)牺牲层的空腔结构平坦化工艺进行了研究。探讨了抛光液体积流量、抛光压力、抛光液种类对牺牲层抛光速率、均匀性和硅槽台阶高度的影响,并对膜层表面质量进行分析和表征。结果表明:二氧化硅类抛光液体积流量控制在120 mL/min,此时抛光速率最高且有利于节约成本;优化了抛光压力工艺参数,当晶圆背压和保持环压力之比为0.76,即当晶圆背压为320 g/cm^(3),保持环压力为420 g/cm^(3)时,可有效地改善牺牲层薄膜的均匀性;引入二氧化铈类抛光液,采用两步抛光工艺,即粗抛时采用二氧化硅类抛光液,精抛时采用二氧化铈类抛光液,可以得到较为理想的台阶高度差;最后将化学机械抛光(CMP)后牺牲层表面形貌进行表征,得到较为优异的牺牲层薄膜质量。 展开更多
关键词 微机电系统(MEMS) 空腔结构 牺牲层 平坦化 台阶高度差 表面粗糙度
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水利工程投标施工方案的研究 被引量:1
5
作者 冯志博 《吉林水利》 2012年第10期11-13,共3页
水利工程投标阶段施工方案选择及投标报价在逐步规范竞争的投标市场中的地位越显重要。本文将实践与理论相结合,规范施工方案编制的必要程序,对投标阶段施工方案与投标报价的决策中各主要参数进行研究,总结和建立了一套能被大多数投标... 水利工程投标阶段施工方案选择及投标报价在逐步规范竞争的投标市场中的地位越显重要。本文将实践与理论相结合,规范施工方案编制的必要程序,对投标阶段施工方案与投标报价的决策中各主要参数进行研究,总结和建立了一套能被大多数投标人员接受并易于使用的程序和方法。 展开更多
关键词 投标 施工方案 报价
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薄膜体声波滤波器的离子束刻蚀修频工艺
6
作者 时鹏程 张智欣 +3 位作者 张倩 冯志博 倪烨 于海洋 《微纳电子技术》 CAS 2024年第1期168-174,共7页
薄膜体声波滤波器因设计模型与器件性能存在匹配度问题及制造过程中各工序的累计误差导致频率一致性差,严重影响了产品良率,因此实现晶圆级别的频率修整十分必要。介绍了离子束刻蚀工艺的原理、技术特点与优势,研究了刻蚀电压、刻蚀电... 薄膜体声波滤波器因设计模型与器件性能存在匹配度问题及制造过程中各工序的累计误差导致频率一致性差,严重影响了产品良率,因此实现晶圆级别的频率修整十分必要。介绍了离子束刻蚀工艺的原理、技术特点与优势,研究了刻蚀电压、刻蚀电流、刻蚀距离、Ar气体体积流量及单次刻蚀量对刻蚀效果的影响,表征了离子束刻蚀工艺对AlN钝化层厚度均一性、刻蚀精度及粗糙度的影响。探究了离子束刻蚀工艺在薄膜体声波滤波器频率修整上的应用,表征了离子束刻蚀工艺对钝化层的表面形貌及晶圆应力的影响。研究结果表明,刻蚀电压为1500 V、刻蚀电流为18 mA、刻蚀气体体积流量为4 cm^(3)/min、刻蚀距离为80 mm时,刻蚀精度高,具有一定借鉴意义;通过3轮电性能测试分析和离子束刻蚀工艺,频率标准差仅为1.23 MHz,大幅提升了薄膜体声波滤波器的频率一致性。 展开更多
关键词 薄膜体声波滤波器 离子束刻蚀 频率修整 刻蚀速率 膜厚修整
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外国籍船舶因紧急情况进入我国内水的海事监管
7
作者 左晓强 冯志博 《中国海事》 2021年第9期43-44,共2页
随着国际航运业蓬勃发展,为持续加强我国海事主管机关对外国籍船舶进入我国内水的监管能力,通过对新《海上交通安全法》中关于外国籍船舶因紧急情况进入我国内水的相关条款进行分析解读,探讨我国海事监管要求,并提出针对此类情形的相关... 随着国际航运业蓬勃发展,为持续加强我国海事主管机关对外国籍船舶进入我国内水的监管能力,通过对新《海上交通安全法》中关于外国籍船舶因紧急情况进入我国内水的相关条款进行分析解读,探讨我国海事监管要求,并提出针对此类情形的相关建议。 展开更多
关键词 外国籍船舶 紧急情况 海事监管 安全
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用于温度补偿型声表面波滤波器温补层的化学机械抛光工艺
8
作者 冯志博 李湃 +3 位作者 袁燕 史向龙 于海洋 孟腾飞 《微纳电子技术》 CAS 北大核心 2023年第2期320-326,共7页
在制备温度补偿型声表面波(TC-SAW)滤波器温补层工艺过程中,温补层薄膜的厚度控制、膜层质量控制和膜厚不均匀性(NU)控制十分重要。对TC-SAW滤波器晶圆的温补层的化学机械抛光(CMP)工艺进行了研究,探讨了不同晶圆背压和保持环压力的比... 在制备温度补偿型声表面波(TC-SAW)滤波器温补层工艺过程中,温补层薄膜的厚度控制、膜层质量控制和膜厚不均匀性(NU)控制十分重要。对TC-SAW滤波器晶圆的温补层的化学机械抛光(CMP)工艺进行了研究,探讨了不同晶圆背压和保持环压力的比值、抛光头转速和抛光盘转速的比值等对温补层的影响,进一步优化工艺参数,并研究了CMP对温补层表面粗糙度的影响。结果表明:采用优化后的工艺参数,即晶圆背压与保持环压力比值约为1.46(晶圆背压为350 g/cm^(3),保持环压力为240 g/cm^(3))、抛光头转速为93 r/min、抛光盘转速为87 r/min时,可以获得厚度稳定、表面均匀性良好、粗糙度为0.4 nm的膜层。最后将TC-SAW滤波器晶圆温补层进行化学机械抛光,得到膜厚为605.4 nm,总厚度偏差(TTV)为62.06 nm,NU为2.54%的温补层表面,最终得到滤波器的温漂系数为-1.478×10^(-5)/℃,可以满足设计要求,提高了滤波器的合格率。 展开更多
关键词 化学机械抛光(CMP) 声表面波滤波器 温补层 膜厚不均匀性 温漂系数
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