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多离子束反应溅射室温沉积PbTiO_3薄膜的结晶性能 被引量:2
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作者 朱建国 彭文斌 +3 位作者 张文 陈猛 肖定全 兰发华 《电子显微学报》 CAS CSCD 1997年第4期437-440,共4页
为了将铁电薄膜与半导体器件集成,发展了新的铁电薄膜制备技术。快速退火(RTP)由于可以降低铁电薄膜的制备温度、改善铁电薄膜与半导体器件兼容性质,因而倍受人们的关注。用多离子束反应共溅射装置在室温下制备了PbTiO3薄... 为了将铁电薄膜与半导体器件集成,发展了新的铁电薄膜制备技术。快速退火(RTP)由于可以降低铁电薄膜的制备温度、改善铁电薄膜与半导体器件兼容性质,因而倍受人们的关注。用多离子束反应共溅射装置在室温下制备了PbTiO3薄膜,样品经RTP装置作退火处理,发现PbTiO3薄膜可以在多晶或非晶层上生长。 展开更多
关键词 铁电薄膜 半导体 溅射法 结晶
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微波介电陶瓷与微波磁介电陶瓷 被引量:5
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作者 杜若昕 兰发华 肖定全 《压电与声光》 CAS CSCD 北大核心 1996年第4期255-259,共5页
微波陶瓷的应用越来越受到人们的重视。文章概括介绍了二元系微波介电陶瓷BaO-TiO2和微波磁性陶瓷BaO—Fe2O3,以及三元系微波磁介电陶瓷BaO—Fe2O3—TiO2的研究情况,并对预期进展作了展望。
关键词 微波陶瓷 磁介电陶瓷 非磁性 微波介质陶瓷
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多离子束反应共溅射制备PbTiO_3铁电薄膜的微结构研究
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作者 彭文斌 陈猛 +2 位作者 朱建国 兰发华 肖定全 《电子显微学报》 CAS CSCD 1997年第4期449-450,共2页
本文利用多离子束反应共溅射装置,分别在Si和MgO衬底上原位制备了PbTi氧化物薄膜。研究表明,利用多离子束反应共溅射技术,可以显著降低薄膜后续热处理的温度;薄膜中焦绿石结构的消失温度与薄膜中Pb的含量有关;较之S... 本文利用多离子束反应共溅射装置,分别在Si和MgO衬底上原位制备了PbTi氧化物薄膜。研究表明,利用多离子束反应共溅射技术,可以显著降低薄膜后续热处理的温度;薄膜中焦绿石结构的消失温度与薄膜中Pb的含量有关;较之Si衬底,在MgO衬底上的薄膜较易获得好的晶体结构和优良的薄膜表面形貌。对所观察到的现象。 展开更多
关键词 多离子束 反应共溅射 铁电薄膜 半导体薄膜技术
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