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掺锑Zn-Sn-O透明导电膜的制备及特性
被引量:
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作者
黄树来
马瑾
+4 位作者
盖凌云
姜永超
计峰
马洪磊
余旭浒
《太阳能学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2005年第5期626-630,共5页
采用射频磁控溅射技术在7059玻璃衬底上低温制备出具有多晶结构的掺锑锌-锡-氧(Zn-Sn-O:Sb)透明 导电膜。研究了制备薄膜的结构、成分、电学和光学特性以及退火温度对薄膜性能的影响。Zn-Sn-P:Sb透明导 电膜的电阻率为1.5×10-2Ω&...
采用射频磁控溅射技术在7059玻璃衬底上低温制备出具有多晶结构的掺锑锌-锡-氧(Zn-Sn-O:Sb)透明 导电膜。研究了制备薄膜的结构、成分、电学和光学特性以及退火温度对薄膜性能的影响。Zn-Sn-P:Sb透明导 电膜的电阻率为1.5×10-2Ω·cm,相应载流子浓度和霍尔迁移率分别为8.0×1019cm-3,5.8cm2·v-1·s-1。薄膜的 可见光平均透过率达到了85%。
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关键词
磁控溅射
Zn-Sn-O:Sb膜
光电性质
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职称材料
题名
掺锑Zn-Sn-O透明导电膜的制备及特性
被引量:
1
1
作者
黄树来
马瑾
盖凌云
姜永超
计峰
马洪磊
余旭浒
机构
山东大学物理与微电子学院
莱阳农学院理学院
石油大学资源与信息学院
出处
《太阳能学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2005年第5期626-630,共5页
基金
国家自然科学基金资助项目(60276044)教育部科学技术研究重点项目资助(重点02165)
文摘
采用射频磁控溅射技术在7059玻璃衬底上低温制备出具有多晶结构的掺锑锌-锡-氧(Zn-Sn-O:Sb)透明 导电膜。研究了制备薄膜的结构、成分、电学和光学特性以及退火温度对薄膜性能的影响。Zn-Sn-P:Sb透明导 电膜的电阻率为1.5×10-2Ω·cm,相应载流子浓度和霍尔迁移率分别为8.0×1019cm-3,5.8cm2·v-1·s-1。薄膜的 可见光平均透过率达到了85%。
关键词
磁控溅射
Zn-Sn-O:Sb膜
光电性质
Keywords
magnetron sputtering
Zn-Sn-O:Sb film
opto-electrical properties
分类号
TM914 [电气工程—电力电子与电力传动]
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作者
出处
发文年
被引量
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1
掺锑Zn-Sn-O透明导电膜的制备及特性
黄树来
马瑾
盖凌云
姜永超
计峰
马洪磊
余旭浒
《太阳能学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2005
1
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