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掺锑Zn-Sn-O透明导电膜的制备及特性 被引量:1
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作者 黄树来 马瑾 +4 位作者 盖凌云 姜永超 计峰 马洪磊 余旭浒 《太阳能学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第5期626-630,共5页
采用射频磁控溅射技术在7059玻璃衬底上低温制备出具有多晶结构的掺锑锌-锡-氧(Zn-Sn-O:Sb)透明 导电膜。研究了制备薄膜的结构、成分、电学和光学特性以及退火温度对薄膜性能的影响。Zn-Sn-P:Sb透明导 电膜的电阻率为1.5×10-2Ω&... 采用射频磁控溅射技术在7059玻璃衬底上低温制备出具有多晶结构的掺锑锌-锡-氧(Zn-Sn-O:Sb)透明 导电膜。研究了制备薄膜的结构、成分、电学和光学特性以及退火温度对薄膜性能的影响。Zn-Sn-P:Sb透明导 电膜的电阻率为1.5×10-2Ω·cm,相应载流子浓度和霍尔迁移率分别为8.0×1019cm-3,5.8cm2·v-1·s-1。薄膜的 可见光平均透过率达到了85%。 展开更多
关键词 磁控溅射 Zn-Sn-O:Sb膜 光电性质
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