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动力锅炉蒸发管内壁腐蚀的EPMA研究
被引量：
1
1
作者
张敦荣
乔瑞洁
杨华
《电子显微学报》
CAS
CSCD
1996年第6期556-556,共1页
动力锅炉蒸发管内壁腐蚀的ＥＰＭＡ研究张敦荣乔瑞洁＊杨华（山东省分析测试中心，＊山东省科学院新材料研究所，济南２５００１４）火电厂正在运行中的动力锅炉中蒸发管的腐蚀是一个不可忽视的问题。本研究中蒸发管发生腐蚀的锅炉属亚...
动力锅炉蒸发管内壁腐蚀的ＥＰＭＡ研究张敦荣乔瑞洁＊杨华（山东省分析测试中心，＊山东省科学院新材料研究所，济南２５００１４）火电厂正在运行中的动力锅炉中蒸发管的腐蚀是一个不可忽视的问题。本研究中蒸发管发生腐蚀的锅炉属亚临界压力锅炉，蒸发量：～１００００...
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关键词
动力锅炉
蒸发管
腐蚀
EPMA
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职称材料
微量Ag对Al-Li-Mg-Zr合金滑移变形的影响
2
作者
张敦荣
乔瑞洁
《电子显微学报》
CAS
CSCD
2000年第4期557-558,共2页
关键词
微量银
A1-Li-Mg-Zr合金
滑移变形
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职称材料
双亲性噻吩羧酸衍生物的制备及潜指纹检测应用
被引量：
2
3
作者
蒋钊
孔兆宇
+5 位作者
乔瑞洁
刘子川
宋林洲
朱森强
朱红军
刘睿
《精细化工》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2024年第9期1925-1932,共8页
以5-溴噻吩-2-羧酸和4-(二苯基胺基)苯硼酸为原料,通过Suzuki偶联反应,合成了双亲性噻吩羧酸衍生物5-[4-(二苯基氨基)苯基]噻吩-2-羧酸(TTC-H)及其钾盐(TTC-K)。采用1HNMR和13CNMR对两个化合物进行了结构表征;利用UV-Vis吸收光谱、荧光...
以5-溴噻吩-2-羧酸和4-(二苯基胺基)苯硼酸为原料,通过Suzuki偶联反应,合成了双亲性噻吩羧酸衍生物5-[4-(二苯基氨基)苯基]噻吩-2-羧酸(TTC-H)及其钾盐(TTC-K)。采用1HNMR和13CNMR对两个化合物进行了结构表征;利用UV-Vis吸收光谱、荧光发射光谱讨论了TTC-H和TTC-K及其聚集态的光物理性质,对其进行密度泛函理论计算和溶剂化显色测试;并对其晶体结构进行解析及Hirshfeld表面分析;将TTC-K水溶液通过化学浸渍法和雾化法应用于潜指纹成像。结果表明,TTC-H分子间存在C…H、H…H和O…H相互作用力,占比分别为31.6%、44.6%和14.6%(占总作用力的百分数,下同)。TTC-H与TTC-K均具有聚集诱导发光性质。将TTC-K水溶液通过化学浸渍法和雾化法应用于潜指纹成像,两种方法均可精确、高效地得到指纹的三级结构。浸渍法能在低浓度(5×10^(–5)mol/L)下实现对潜指纹的快速(≤5 s)识别,陈化稳定性好;而雾化法更容易操作,对于陈旧指纹(≤14 d)、水中浸泡指纹(≤7 d)均具有良好的成像效果。
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关键词
双亲性
羧酸盐
潜指纹
雾化法
聚集诱导发光
功能材料
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职称材料
题名
动力锅炉蒸发管内壁腐蚀的EPMA研究
被引量：
1
1
作者
张敦荣
乔瑞洁
杨华
机构
山东省分析测试中心
山东省科学院新材料研究所
出处
《电子显微学报》
CAS
CSCD
1996年第6期556-556,共1页
文摘
动力锅炉蒸发管内壁腐蚀的ＥＰＭＡ研究张敦荣乔瑞洁＊杨华（山东省分析测试中心，＊山东省科学院新材料研究所，济南２５００１４）火电厂正在运行中的动力锅炉中蒸发管的腐蚀是一个不可忽视的问题。本研究中蒸发管发生腐蚀的锅炉属亚临界压力锅炉，蒸发量：～１００００...
关键词
动力锅炉
蒸发管
腐蚀
EPMA
分类号
TK224.9 [动力工程及工程热物理—动力机械及工程]
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职称材料
题名
微量Ag对Al-Li-Mg-Zr合金滑移变形的影响
2
作者
张敦荣
乔瑞洁
机构
山东省分析测试中心
山东省科学院新材料研究所
出处
《电子显微学报》
CAS
CSCD
2000年第4期557-558,共2页
关键词
微量银
A1-Li-Mg-Zr合金
滑移变形
分类号
TG14 [金属学及工艺—金属材料]
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职称材料
题名
双亲性噻吩羧酸衍生物的制备及潜指纹检测应用
被引量：
2
3
作者
蒋钊
孔兆宇
乔瑞洁
刘子川
宋林洲
朱森强
朱红军
刘睿
机构
南京工业大学化学与分子工程学院
出处
《精细化工》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2024年第9期1925-1932,共8页
基金
江苏省自然科学基金项目(BK20220351)
江苏省高等学校基础科学研究项目(22KJB150027)
大学生创新创业训练计划项目(2023DC0829)。
文摘
以5-溴噻吩-2-羧酸和4-(二苯基胺基)苯硼酸为原料,通过Suzuki偶联反应,合成了双亲性噻吩羧酸衍生物5-[4-(二苯基氨基)苯基]噻吩-2-羧酸(TTC-H)及其钾盐(TTC-K)。采用1HNMR和13CNMR对两个化合物进行了结构表征;利用UV-Vis吸收光谱、荧光发射光谱讨论了TTC-H和TTC-K及其聚集态的光物理性质,对其进行密度泛函理论计算和溶剂化显色测试;并对其晶体结构进行解析及Hirshfeld表面分析;将TTC-K水溶液通过化学浸渍法和雾化法应用于潜指纹成像。结果表明,TTC-H分子间存在C…H、H…H和O…H相互作用力,占比分别为31.6%、44.6%和14.6%(占总作用力的百分数,下同)。TTC-H与TTC-K均具有聚集诱导发光性质。将TTC-K水溶液通过化学浸渍法和雾化法应用于潜指纹成像,两种方法均可精确、高效地得到指纹的三级结构。浸渍法能在低浓度(5×10^(–5)mol/L)下实现对潜指纹的快速(≤5 s)识别,陈化稳定性好;而雾化法更容易操作,对于陈旧指纹(≤14 d)、水中浸泡指纹(≤7 d)均具有良好的成像效果。
关键词
双亲性
羧酸盐
潜指纹
雾化法
聚集诱导发光
功能材料
Keywords
amphiphilicity
carboxylates
latent fingerprints
atomization method
aggregation-induced emission
functional materials
分类号
O69 [理学—化学]
TQ251.2 [化学工程—有机化工]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
动力锅炉蒸发管内壁腐蚀的EPMA研究
张敦荣
乔瑞洁
杨华
《电子显微学报》
CAS
CSCD
1996
1
在线阅读
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职称材料
2
微量Ag对Al-Li-Mg-Zr合金滑移变形的影响
张敦荣
乔瑞洁
《电子显微学报》
CAS
CSCD
2000
0
在线阅读
下载PDF
职称材料
3
双亲性噻吩羧酸衍生物的制备及潜指纹检测应用
蒋钊
孔兆宇
乔瑞洁
刘子川
宋林洲
朱森强
朱红军
刘睿
《精细化工》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2024
2
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职称材料
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