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大尺寸硅基体633nm和3.5～4.1μm双波段高反射膜研制
被引量：
2
1
作者
岳威
韩永昶
+2 位作者
东野斯阳
武淑明
赵明艳
《红外与激光工程》
EI
CSCD
北大核心
2012年第7期1854-1857,共4页
硅由于透光区域较宽,便于光学系统使用而经常应用于中波红外光学系统中。但是,以其作为基底,镀制0°～22.5°入射、633 nm与3.5～4.1μm双波段的反射膜却具有相当大的难度,尤其是φ300 mm等大尺寸硅镜引起的牢固度问题。以红外...
硅由于透光区域较宽,便于光学系统使用而经常应用于中波红外光学系统中。但是,以其作为基底,镀制0°～22.5°入射、633 nm与3.5～4.1μm双波段的反射膜却具有相当大的难度,尤其是φ300 mm等大尺寸硅镜引起的牢固度问题。以红外光学和薄膜技术为背景,介绍了大尺寸硅基体反射膜的特性、制备及测试方法。由于红外区可选用的薄膜材料较少,兼顾膜层的制备、光谱特性及可靠性满足等方面因素,最终采用氟化镱(YbF3)作为低折射率材料。经过多次实验,采用速率控制、离子辅助等工艺方法,选取合适的基底温度,解决了在大尺寸硅基体上由于膜层过厚以及YbF3膜层严重应力作用而导致的膜层龟裂问题,最终研制成功符合使用要求,且可靠性和光谱特性皆优的双波段反射薄膜。
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关键词
红外光学
大尺寸硅镜
高反射膜
牢固度
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职称材料
谐振腔衰荡法检测激光高反射薄膜损耗
被引量：
1
2
作者
岳威
韩永昶
+2 位作者
东野斯阳
武淑明
赵明艳
《激光与红外》
CAS
CSCD
北大核心
2012年第4期413-416,共4页
光学薄膜的损耗类型主要涉及吸收和散射,精确测定其数值是制备具有高品质和灵敏度指标激光薄膜的前提。本文以薄膜光学和激光技术为背景,介绍了谐振腔衰荡检测高反射薄膜的原理、特性以及测试方法。以1064 nm和1311 nm的高反射膜层为例...
光学薄膜的损耗类型主要涉及吸收和散射,精确测定其数值是制备具有高品质和灵敏度指标激光薄膜的前提。本文以薄膜光学和激光技术为背景,介绍了谐振腔衰荡检测高反射薄膜的原理、特性以及测试方法。以1064 nm和1311 nm的高反射膜层为例,利用Losspro激光测试装置,对于二氧化锆(ZrO2)、五氧化二钽(Ta2O5)材料获得百万分(ppm)量级精度的损耗数据后,针对不同薄膜材料和工艺方法进行了对比检测,分析认为速率控制和离子束能量对于相同材料的激光高反射薄膜具有明显的影响,进而为薄膜样品的制备奠定了技术基础。
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关键词
谐振腔衰荡
光学薄膜
薄膜损耗
高反射
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职称材料
题名
大尺寸硅基体633nm和3.5～4.1μm双波段高反射膜研制
被引量：
2
1
作者
岳威
韩永昶
东野斯阳
武淑明
赵明艳
机构
固体激光技术国家级重点实验室
华北光电技术研究所
出处
《红外与激光工程》
EI
CSCD
北大核心
2012年第7期1854-1857,共4页
基金
固体激光技术国家重点实验室基金(914100C04)
文摘
硅由于透光区域较宽,便于光学系统使用而经常应用于中波红外光学系统中。但是,以其作为基底,镀制0°～22.5°入射、633 nm与3.5～4.1μm双波段的反射膜却具有相当大的难度,尤其是φ300 mm等大尺寸硅镜引起的牢固度问题。以红外光学和薄膜技术为背景,介绍了大尺寸硅基体反射膜的特性、制备及测试方法。由于红外区可选用的薄膜材料较少,兼顾膜层的制备、光谱特性及可靠性满足等方面因素,最终采用氟化镱(YbF3)作为低折射率材料。经过多次实验,采用速率控制、离子辅助等工艺方法,选取合适的基底温度,解决了在大尺寸硅基体上由于膜层过厚以及YbF3膜层严重应力作用而导致的膜层龟裂问题,最终研制成功符合使用要求,且可靠性和光谱特性皆优的双波段反射薄膜。
关键词
红外光学
大尺寸硅镜
高反射膜
牢固度
Keywords
infrared optics
large size silicon lens
high reflectivity coatings
durability
分类号
O484 [理学—固体物理]
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职称材料
题名
谐振腔衰荡法检测激光高反射薄膜损耗
被引量：
1
2
作者
岳威
韩永昶
东野斯阳
武淑明
赵明艳
机构
固体激光技术国家级重点实验室
出处
《激光与红外》
CAS
CSCD
北大核心
2012年第4期413-416,共4页
文摘
光学薄膜的损耗类型主要涉及吸收和散射,精确测定其数值是制备具有高品质和灵敏度指标激光薄膜的前提。本文以薄膜光学和激光技术为背景,介绍了谐振腔衰荡检测高反射薄膜的原理、特性以及测试方法。以1064 nm和1311 nm的高反射膜层为例,利用Losspro激光测试装置,对于二氧化锆(ZrO2)、五氧化二钽(Ta2O5)材料获得百万分(ppm)量级精度的损耗数据后,针对不同薄膜材料和工艺方法进行了对比检测,分析认为速率控制和离子束能量对于相同材料的激光高反射薄膜具有明显的影响,进而为薄膜样品的制备奠定了技术基础。
关键词
谐振腔衰荡
光学薄膜
薄膜损耗
高反射
Keywords
cavity ring-down
optical thin film
thin film loss
high reflective
分类号
O484 [理学—固体物理]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
大尺寸硅基体633nm和3.5～4.1μm双波段高反射膜研制
岳威
韩永昶
东野斯阳
武淑明
赵明艳
《红外与激光工程》
EI
CSCD
北大核心
2012
2
在线阅读
下载PDF
职称材料
2
谐振腔衰荡法检测激光高反射薄膜损耗
岳威
韩永昶
东野斯阳
武淑明
赵明艳
《激光与红外》
CAS
CSCD
北大核心
2012
1
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职称材料
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