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题名微米级数字光刻微缩投影物镜设计
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作者
杨嘉根
郝博楷
万林峰
王双保
徐智谋
张学明
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机构
华中科技大学光学与电子信息学院
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出处
《红外技术》
北大核心
2025年第6期696-703,共8页
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基金
湖北省重点研发计划项目资助(2022BBA0074)
湖北省级应用光学一流课程建设项目(2022-65)。
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文摘
微米级芯片因其成本低、技术成熟等优势,目前在大规模工业生产中应用广泛。而在制造领域,微米级分辨率的数字光刻投影物镜设计成果则相对较少。本文基于ZEMAX设计了一款具有微米级分辨率的数字光刻微缩投影物镜,对于光刻常用的405 nm的光源,其具有0.625mm的分辨率,能够完成较为精密的结构加工;将成像的畸变降低到了0.0159%,极大地提高了成像质量;物镜设计放大倍率为-0.0714,物方数值孔径为0.02,能够满足大多数微米级芯片制造。同时设计了一组微透镜阵列用于匀光照明,降低了光照不均匀的影响。经公差分析,有90%的成品MTF>0.7692,满足加工精度要求。
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关键词
微米级芯片
数字光刻
ZEMAX
微透镜阵列
匀光
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Keywords
micron scale chip
digital lithography
ZEMAX
microlens array
uniform light
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分类号
TN202
[电子电信—物理电子学]
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