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溶胶凝胶工艺制备超亲水耐污秽易清洁涂层的研究 被引量:2
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作者 魏美玲 闫法强 +3 位作者 丁彦霞 郭志军 王守兴 牟善浩 《硅酸盐通报》 CAS CSCD 北大核心 2017年第12期4173-4177,共5页
采用溶胶凝胶工艺,与高纯硅溶胶复合制备了不同粒径匹配的超亲水涂层溶液,采用提拉工艺在玻璃基体上制备了超亲水涂层,分析了影响涂层厚度的因素,通过SEM分析了涂层的微观结构和膜层厚度及易清洁的机理,通过椭偏仪测试了涂层的厚度、孔... 采用溶胶凝胶工艺,与高纯硅溶胶复合制备了不同粒径匹配的超亲水涂层溶液,采用提拉工艺在玻璃基体上制备了超亲水涂层,分析了影响涂层厚度的因素,通过SEM分析了涂层的微观结构和膜层厚度及易清洁的机理,通过椭偏仪测试了涂层的厚度、孔径分布及气孔率、折射率等性能,通过户外自然积污实验测试了涂层的抗灰尘、易清洁性能,结果表明:涂层具有凹凸微纳多孔结构,涂层厚度在150~275 nm之间,气孔率3%~5%,气孔尺寸小于2 nm。通过控制溶胶组成与制备工艺参数,制备的涂层具有超亲水、耐污秽、易清洁性能。 展开更多
关键词 溶胶凝胶 超亲水 耐污 易清洁涂层
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无机多孔膜材料在绝缘子防“污闪”方面的研究与应用
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作者 丁彦霞 阎法强 +4 位作者 郭志军 魏美玲 栾艺娜 陈文辉 宫云霞 《硅酸盐通报》 CAS CSCD 北大核心 2017年第10期3548-3554,共7页
通过溶胶-凝胶法,分别在玻璃基片和瓷绝缘子上制备了无机多孔膜材料,并对该材料进行了憎水试验、防尘试验、电气性能测试及人工模拟自然积污对比试验,以及SEM、AFM分析。结果显示,因其特殊的结构特征,经高温硬化的无机多孔膜不仅具备憎... 通过溶胶-凝胶法,分别在玻璃基片和瓷绝缘子上制备了无机多孔膜材料,并对该材料进行了憎水试验、防尘试验、电气性能测试及人工模拟自然积污对比试验,以及SEM、AFM分析。结果显示,因其特殊的结构特征,经高温硬化的无机多孔膜不仅具备憎水、防尘性能,而且具有良好的耐老化及防"污闪"性能,自洁效果显著。 展开更多
关键词 溶胶-凝胶 无机多孔膜 憎水 防尘 防“污闪” 自洁
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基于氨基化碳量子点荧光增强测定氨苄青霉素 被引量:3
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作者 贺晨芳 丁彦霞 +1 位作者 任光明 李满秀 《理化检验(化学分册)》 CSCD 北大核心 2017年第12期1423-1426,共4页
采用水热法制备碳量子点,通过碳量子点与氨水反应使其表面氨基化,氨苄青霉素与氨基化碳量子点作用后,使其荧光显著增强,由此建立测定药物中氨苄青霉素的荧光光度法。在比色管中依次加入0.016mol·L^(-1)氨基化碳量子点溶液1.00mL和... 采用水热法制备碳量子点,通过碳量子点与氨水反应使其表面氨基化,氨苄青霉素与氨基化碳量子点作用后,使其荧光显著增强,由此建立测定药物中氨苄青霉素的荧光光度法。在比色管中依次加入0.016mol·L^(-1)氨基化碳量子点溶液1.00mL和样品溶液0.45mL,pH 7.0三酸缓冲溶液1mL,用水定容至5mL,室温下反应30min后,在激发波长340nm、发射波长433nm处测量溶液相对荧光强度(F/F0,F、F0分别为加入与不加入氨基化碳量子点时体系的荧光强度)。氨苄青霉素质量浓度在2.0×10^(-6)~9.0×10^(-5) mol·L^(-1)内与体系的相对荧光强度呈线性关系,检出限(3S/N)为1.2×10^(-6) mol·L^(-1)。加标回收率为99.0%~109%,测定值的相对标准偏差(n=5)小于2.0%。 展开更多
关键词 荧光光度法 氨苄青霉素 氨基化碳量子点 荧光增强
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