为解决传统电化学抛光难以均匀去除激光粉末床熔融成形碳化钨增强哈氏(Hastelloy X)合金复合材料的异质相(纳米陶瓷颗粒、碳化物等)而导致的表面质量差难题,采用紫外光催化辅助电化学抛光方法,通过正交和单因素试验研究了抛光电压、光...为解决传统电化学抛光难以均匀去除激光粉末床熔融成形碳化钨增强哈氏(Hastelloy X)合金复合材料的异质相(纳米陶瓷颗粒、碳化物等)而导致的表面质量差难题,采用紫外光催化辅助电化学抛光方法,通过正交和单因素试验研究了抛光电压、光辐照度和抛光时间对该复合材料表面粗糙度的影响规律与作用机制。结果表明:紫外光辐照促使钝化区(4.5~6.5 V vs. SCE)内的阳极电流密度提升了0.01 A/cm^(2),显著提升基体与碳化钨增强相的同步溶解速率;经正交试验极差分析的影响显著性依次为光辐照度、抛光电压和抛光时间;经单因素实验优化的工艺参数为光辐照度913 mW/cm^(2)、抛光电压5 V、抛光时间15 min,所得表面粗糙度为Ra0.39μm,降幅达74.8%。展开更多
文摘为解决传统电化学抛光难以均匀去除激光粉末床熔融成形碳化钨增强哈氏(Hastelloy X)合金复合材料的异质相(纳米陶瓷颗粒、碳化物等)而导致的表面质量差难题,采用紫外光催化辅助电化学抛光方法,通过正交和单因素试验研究了抛光电压、光辐照度和抛光时间对该复合材料表面粗糙度的影响规律与作用机制。结果表明:紫外光辐照促使钝化区(4.5~6.5 V vs. SCE)内的阳极电流密度提升了0.01 A/cm^(2),显著提升基体与碳化钨增强相的同步溶解速率;经正交试验极差分析的影响显著性依次为光辐照度、抛光电压和抛光时间;经单因素实验优化的工艺参数为光辐照度913 mW/cm^(2)、抛光电压5 V、抛光时间15 min,所得表面粗糙度为Ra0.39μm,降幅达74.8%。
